潤(rùn)凝實(shí)業(yè)(上海)有限公司
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HI 84100 0 to 400 ppm of SO2 等電位氧化還原滴定法 讀數(shù)的5% 50 mL HI 3148B 220V/60 Hz;10VA 0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% 208 × 214 × 163 mm;2200 g
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• 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
• 人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號(hào) 滴定范圍 滴定方法 滴定精度 取樣量 ORP電極 供電方式 使用環(huán)境 尺寸重量
HI 84100 食品行業(yè)二氧化硫滴定分析測(cè)定,HI3148B專用電極,滴定試劑,相關(guān)附件,中英文手冊(cè) '
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