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無掩膜顯微型光刻機

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更新時間：2021-01-21 15:46:27瀏覽次數(shù)：1045次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	是
適用領(lǐng)域	科研

無掩膜顯微型光刻機裝置
UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結(jié)合的縮小投影型無掩模曝光系統(tǒng)，其*傳統(tǒng)系統(tǒng)（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)）可以使用專門為此目的開發(fā)的軟件來創(chuàng)建想要的圖案。

詳細(xì)介紹

無掩膜顯微型光刻機概述：

顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。
圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。
因為可以在普通的室內(nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。

顯無掩膜顯微型光刻機應(yīng)用：

薄膜FET和霍爾效應(yīng)測量樣品的電極形成。
從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。
研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。

無掩膜顯微型光刻機參數(shù)：

由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以用很低的成本來構(gòu)建系統(tǒng)
易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案
通過物鏡放大倍率圖案，可以進(jìn)行大范圍的批量曝光
可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）
分辨率在微米級
曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um
可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）
分辨率在微米級
曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um

關(guān)鍵詞：顯微鏡金相顯微鏡投影儀

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