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產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否

XRD-Mill McCrone

XRD-Mill McCrone專為X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而研發(fā)，主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
具有*的研磨方式：研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線性撞擊和平面剪切兩種方式，所以研磨時(shí)間短，幾乎沒有樣品損失，得到特別窄的粒徑分布。
晶格在研磨過程中幾乎*保留。
研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐，配一個(gè)無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿，材質(zhì)有瑪瑙，氧化鋯和剛玉。的磨時(shí)間是在3-30分鐘，典型的樣品體積是在2-4 ml之間。

應(yīng)用實(shí)例

borides, clay, mica, nitrides, slate, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭

優(yōu)點(diǎn)

研磨過程中晶格被保留。
粒徑分布窄。
幾乎沒有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。

性能指標(biāo)

應(yīng)用	搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨
應(yīng)用領(lǐng)域	X-ray diffraction
樣品特征	中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的
大進(jìn)樣尺寸	<0.5毫米
終出料粒度 *	< 1 µm
網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速	1,000 - 1,500 min-1 4步
研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù))	1
典型粉碎時(shí)間	3 - 30 min
干磨	是
濕磨	是
低溫研磨	-
研磨套件材料：	瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石
研磨罐尺寸	125 ml
粉碎時(shí)間設(shè)定	數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50
驅(qū)動(dòng)	DC-Motor
驅(qū)動(dòng)功率	50W
電源數(shù)據(jù)：	220-240 V, 50/60 Hz
電源接頭：	單相
防護(hù)類型	IP 30
接受功率	100W
機(jī)體尺寸（寬x高x縱深）	205 x 155 x 520 mm
凈重	~19 kg
標(biāo)準(zhǔn)	CE

Please note:
受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響

作用原理

主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。
在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動(dòng)，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。

由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得成為X射線衍射分析樣品制備的選擇。