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閱讀：57發(fā)布時(shí)間：2024-2-12
半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)，除需要超凈的環(huán)境外，有些工序還必須在高真空中進(jìn)行，比如磁控濺射臺(tái)、電子束蒸發(fā)臺(tái)、ICP、PECVD等設(shè)備。半導(dǎo)體器件都包含著許多層各種各樣的材料，如果在這些不同的材料層之間混入氣體分子，就會(huì)破壞器件的電學(xué)或光學(xué)性能。
一些半導(dǎo)體設(shè)備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設(shè)備能及時(shí)抽走未反應(yīng)氣體和氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，保證工藝人員的安全。
1、半導(dǎo)體設(shè)備要求高真空，比如磁控濺射臺(tái)、電子束蒸發(fā)臺(tái)、ICP、PECVD等設(shè)備。出現(xiàn)泄漏就會(huì)導(dǎo)致高真空達(dá)不到或需要大量的時(shí)間，耗時(shí)耗力；
2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆?；驂m埃就會(huì)對(duì)晶元造成污染，對(duì)半導(dǎo)體的特性改變并破壞其性能，因此在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中必須進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏；
3、一些半導(dǎo)體設(shè)備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過(guò)氦質(zhì)譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設(shè)備能及時(shí)抽走未反應(yīng)氣體和氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。
4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會(huì)失效。
總之，半導(dǎo)體制造生產(chǎn)需要一個(gè)極其潔凈的環(huán)境以保證生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)品不受空氣等污染或擾動(dòng)的影響。為此，一個(gè)潔凈的真空環(huán)境需求就成為必然。
半導(dǎo)體設(shè)備檢漏方法: 根據(jù)待檢漏產(chǎn)品特性, 可選擇真空法來(lái)檢漏, 設(shè)定好漏率值,用檢漏儀直接連接待檢漏配件, 檢漏儀將檢測(cè)配件內(nèi)部的氣體抽到一定的真空度, 然后氦氣通過(guò)噴槍吹掃在部件的外表面. 可直觀定位漏點(diǎn), 諾益NHJ系列移動(dòng)型氦質(zhì)譜檢漏儀符合人體工學(xué)設(shè)計(jì), 移動(dòng)性強(qiáng), 符合標(biāo)準(zhǔn)！
半導(dǎo)體設(shè)備真空系統(tǒng)出現(xiàn)故障一般分為兩類：一是真空泵組及測(cè)量系統(tǒng)的故障，另一個(gè)是真空系統(tǒng)的泄漏。對(duì)于類故障，檢測(cè)真空泵的極限真空度或更換好的真空計(jì)就可以確認(rèn)。對(duì)于第二類故障則需要檢漏。在對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備檢漏時(shí)常使用兩種方法：靜壓檢漏法和氦質(zhì)譜檢漏法。靜壓檢漏法就是用閥門將真空室與真空泵組隔開(kāi)，測(cè)量其內(nèi)部壓強(qiáng)的變化。氦質(zhì)譜檢漏法要復(fù)雜一些。
氦質(zhì)譜檢漏儀一般需要拿到現(xiàn)場(chǎng)去，檢漏儀內(nèi)有分子泵，因此搬運(yùn)時(shí)要輕拿輕放。常常選擇檢漏儀高靈敏度方式來(lái)檢漏，這有利于保護(hù)分子泵。檢漏儀的抽氣能力有限，因此常常需要設(shè)備自己抽好真空。真空抽到0.5～10Pa就行。等到漏率顯示穩(wěn)定或由穩(wěn)定轉(zhuǎn)成減少后再開(kāi)始檢漏。
在檢漏過(guò)程中如果需要對(duì)門閥、粗抽閥、放氣閥等進(jìn)行操作，則必需先讓檢漏儀停止檢漏并選擇檢漏口不放氣，避免真空室突然進(jìn)入大量氣體而損壞檢漏儀。真空抽到后應(yīng)該關(guān)上門閥和粗抽閥，以免分流導(dǎo)致漏率測(cè)量值小于實(shí)際值。停掉設(shè)備上的分子泵和機(jī)械泵，從而避免它們的干擾；有冷泵的設(shè)備要想檢漏應(yīng)該停掉冷泵。
用真空法檢測(cè)雙密封結(jié)構(gòu)產(chǎn)品漏率時(shí)，常有漏率緩慢升高的現(xiàn)象發(fā)生, 因此在檢漏過(guò)程中要注意這一點(diǎn)。另外, 要求氦袋不漏氣，一般要求噴出的氦流量少，這樣有利于確認(rèn)漏點(diǎn)位置，但是也有特殊情況，需要在某些氦不易到達(dá)的地方噴出較多氦，以避免漏檢。檢漏時(shí)加裝的波紋管不能檢漏，發(fā)現(xiàn)漏點(diǎn)后要進(jìn)行第二次確認(rèn)，漏點(diǎn)維修后要再進(jìn)行檢漏確認(rèn)。
此外，半導(dǎo)體器件由于器件體積小, 且無(wú)法抽真空或直接充入氦氣, 而氦檢漏又離不開(kāi)氦氣作為示蹤氣體, 所以諾益科技推薦采用"背壓法"檢漏。
背壓法檢漏
安徽諾益科技生產(chǎn)的氦質(zhì)譜檢漏儀憑借的品質(zhì)及穩(wěn)定的性能已廣泛應(yīng)用在眾多行業(yè)上，的生產(chǎn)設(shè)備，標(biāo)準(zhǔn)化的生產(chǎn)流程，嚴(yán)格的品質(zhì)把控等等一系列的因素，才得以讓我們的產(chǎn)品在業(yè)界有良好的口碑，我們始終堅(jiān)持以安全保障為前提，對(duì)品質(zhì)嚴(yán)格把控，對(duì)產(chǎn)品創(chuàng)新不斷追求，諾益產(chǎn)品，值得您的信賴。
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