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JSM-7610FPlus 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

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更新時(shí)間：2022-04-21 16:42:45瀏覽次數(shù)：415次

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北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司

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產(chǎn)品簡介

*的JSM-7610F的光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)過改進(jìn)，實(shí)現(xiàn)了分辨率（15kV0.8nm、1kV1.0nm）的進(jìn)一步提升，以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相

詳細(xì)介紹

*的JSM-7610F的光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)過改進(jìn)，實(shí)現(xiàn)了分辨率（15kV 0.8nm、1kV 1.0nm）的進(jìn)一步提升，以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統(tǒng)，能提供穩(wěn)定的高空間分辨率觀察和分析。

此外還具備利用GENTLEBEAM^TM模式進(jìn)行低加速電壓觀察、通過r-filter分選信號(hào)等滿足各種需求的高擴(kuò)展性。主要特點(diǎn)如下：

◇ 半浸沒式物鏡

半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強(qiáng)磁場(chǎng)，因而可以獲得超高分辨率。

◇ High Power Optics

High Power Optics 是*的電子光學(xué)系統(tǒng)，既實(shí)現(xiàn)了高倍率觀察又能進(jìn)行多種分析。

浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍，可以獲得10 倍于傳統(tǒng)肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍（FEG）的探針電流，光闌角控制鏡（ALC）在探針電流增大時(shí)也能保持小束斑，兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流。*的High Power Optics 系統(tǒng)，從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的最小物鏡光闌而不需要改換。

浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍銃

浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍通過和低像差聚光鏡組合，可以有效地收集從電子槍內(nèi)發(fā)射的電子。

光闌角控制鏡（ACL）

光闌角控制鏡（ACL）配置在物鏡的上方，在整個(gè)探針電流范圍內(nèi)自動(dòng)優(yōu)化物鏡光闌的角度。因此，即使照射樣品的探針電流很大，與傳統(tǒng)方式相比，也能獲得很小的電子束斑。

即使探針電流很大，束斑直徑也很小

長時(shí)間分析時(shí)穩(wěn)定度也很高

◇ 柔和電子束（GB:GENTLEBEAM^TM）模式

GB 模式的效果

GB 模式在低電壓下提高分辨率

左圖一般模式，右圖GB模式

增強(qiáng)了的低加速電壓下的分辨率

◇ r-過濾器

◇ LABE檢測(cè)器（選配件）

利用LABE 檢測(cè)器獲取低角度背散射電子像

◇ 擴(kuò)展性

能譜儀（EDS）

波譜儀（WDS）

陰極熒光系統(tǒng)（CL）

技術(shù)參數(shù)

二次電子像分辨率	0.8 nm（加速電壓 15 kV），1.0 nm（加速電壓 1 kV ）分析時(shí) 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA )
倍率	Direct magnification: x25 to 1,000,000（120 x 90 mm） Display magnification: x75 to 3,000,000（1,280 x 960 pixels）
加速電壓	0.1 ～ 30 kV
探針電流	數(shù) pA ～ 200 nA
電子槍	浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
透鏡系統(tǒng)	聚光鏡（CL）、光闌角控制鏡（ACL）、半浸沒式物鏡（OL）
樣品臺(tái)	全對(duì)中測(cè)角樣品臺(tái)、5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)
電子檢測(cè)器系列	高位檢測(cè)器、　r‐過濾器　內(nèi)置、低位檢測(cè)器
自動(dòng)功能	自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消象散、自動(dòng)亮度/襯度調(diào)節(jié)
圖像觀察用液晶顯示器	屏幕尺寸 23英寸寬屏分辨率　1,920 × 1,080像素
抽真空系統(tǒng)	電子槍室／中間室　SIP 離子泵樣品室　TMP 分子泵