北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間:2022-04-22 16:41:26瀏覽次數(shù):259次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 儀表網(wǎng)簡(jiǎn)介︰聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)(polymerpenlithography)聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL,使用可達(dá)160000筆尖的陣列
簡(jiǎn)介︰
聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)(polymer pen lithography)聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列,采用蘸筆光刻DPN的方式,將待沉積的材料(墨水)浸蘸在筆尖陣列上,筆尖可控的與基底表面接觸,從而在基底表面批量成型所需圖案,加工納米微米圖案無需光掩膜,且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率,可應(yīng)用于納米粒子合成,蛋白陣列,單細(xì)胞排布,納米電路構(gòu)造、生物芯片、化學(xué)檢測(cè)、微尺度催化反應(yīng)、分子馬達(dá)等領(lǐng)域。此設(shè)備在國(guó)際上屬于基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng),PPL技術(shù)是美國(guó)Tera-print公司的技術(shù)。
主要特點(diǎn)
- 高分辨率,可達(dá)低于100nm的分辨率;
- 高通量模式,可達(dá)160000針尖輸出制作結(jié)構(gòu);
- TERA-FAB M系列可制作厘米級(jí)材料尺寸;
- 無需掩模,即時(shí)性改變輸出機(jī)構(gòu),可廣泛適應(yīng)軟質(zhì)和硬質(zhì)材料;
- 軟硬件友好,非專業(yè)人士可在幾小時(shí)培訓(xùn)后,熟練使用。

A)一張4英寸的PPL陣列,有1100萬支筆尖。
B)陣列內(nèi)納米尺度彈性材料的掃描電子顯微照片及內(nèi)嵌圖像;
C)由PPL技術(shù)打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水(蛋白);
D)熒光光學(xué)顯微圖的結(jié)果,PPL合成了多路熒光標(biāo)記蛋白的圖案。
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