HI84100食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將*先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。

詳細介紹

HI84100食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀

HI84100食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀的產(chǎn)品介紹:

HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將*先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。

基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結(jié)果。
人性化設(shè)計，具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能。
殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

HI84100食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀的產(chǎn)品參數(shù)：

測量項目	二氧化硫
量程	0 to 400 ppm of SO₂
解析度	1 ppm
精度	讀數(shù)的5%
測量方法	滴定法
測量原理	等電位氧化還原滴定法
取樣量	50 mL
ORP 電極	HI 3148B
泵流量	0.5 mL/min
攪拌速率	1500 rpm
適用環(huán)境	0 to 50°C (32 to 122°F); max 95% RH無冷凝
供電方式	220V/60 Hz; 10VA
尺寸重量	208 x 214 x 163 mm；2200 g

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