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森泉(上海)光電科技有限公司


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用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)地 進(jìn)口 加工定制 是

用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器
用于空氣污染研究中的光化學(xué)
該太陽(yáng)模擬器產(chǎn)生高層大氣中的太陽(yáng)光譜

詳細(xì)介紹

用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

Sciencetech太陽(yáng)光模擬的項(xiàng)目

用于空氣污染研究中的光化學(xué)

該太陽(yáng)模擬器產(chǎn)生高層大氣中的太陽(yáng)光譜


產(chǎn)品特點(diǎn)

• 照射一個(gè)設(shè)計(jì)用來(lái)容納懸浮氣溶膠的圓形滾筒

• 0.5 m2 輻照面積

• 1° 半角*高準(zhǔn)直度

• AM0 光譜匹配

• 可調(diào)節(jié)光強(qiáng)系統(tǒng) 0.25- 1 個(gè)太陽(yáng)

• 系統(tǒng)須被安裝在尺寸 5×3×2.5m (長(zhǎng)寬高)的房間內(nèi)

• 將整個(gè)系統(tǒng)的溫度控制在恒定的 25 ° C

用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器


產(chǎn)品系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和構(gòu)思

  • 設(shè)計(jì)思路

Sciencetech的該產(chǎn)品系統(tǒng)的核心是一個(gè) 6500 W 氙短弧燈和深橢圓反射鏡,用于產(chǎn)生*大光功率并將其重新引導(dǎo)到均化系統(tǒng)中。使用定制的高度純化的熔融石英均質(zhì)棒來(lái)實(shí)現(xiàn)樣品桶中所需的空間均勻性。均勻化的光被引導(dǎo)通過(guò)科勒透鏡配置,被轉(zhuǎn)向鏡折回,并再次折回并被準(zhǔn)直鏡引導(dǎo)到樣品鼓中。直徑近一米、焦距為 3 m 的準(zhǔn)直鏡由 Sciencetech 的一家鏡頭供應(yīng)商專(zhuān)門(mén)生產(chǎn),并經(jīng)過(guò) Sciencetech 測(cè)試,確認(rèn)達(dá)到了目標(biāo)輻照度曲線。

用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

太陽(yáng)模擬器系統(tǒng)的光學(xué)組件布局


  • 光譜濾光片

并根據(jù)要求定制設(shè)計(jì)了*殊的光譜濾光片來(lái)模擬太陽(yáng)光譜。Sciencetech 液體過(guò)濾器中的水吸收了數(shù)百瓦不需要的紅外波長(zhǎng),并使用循環(huán)冷卻系統(tǒng)消散了熱能。

用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

為太陽(yáng)模擬器的光學(xué)設(shè)計(jì)執(zhí)行的光線追蹤路徑模型


用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

評(píng)估階段

科技工程團(tuán)隊(duì)進(jìn)行了臺(tái)架測(cè)試,將理論計(jì)算與實(shí)際光源效率進(jìn)行比較。

進(jìn)行了大量的計(jì)算,以根據(jù)目標(biāo)平面上預(yù)期的光功率對(duì)太陽(yáng)模擬器的*終光譜輪廓進(jìn)行建模。臺(tái)架測(cè)試還有助于選擇光學(xué)裝置(例如透鏡、鏡子和均化光管)所需的適當(dāng)涂層和材料。

使用的材料需要能夠承受高光功率密度和大量的紫外線發(fā)射。因此,確定所用材料的耐久性和性能是項(xiàng)目評(píng)估的一個(gè)重要方面。

用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器


系統(tǒng)內(nèi)部組件和概念光路的全面 3D 繪圖


用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

光線穿過(guò)均化光學(xué)組件時(shí)拍攝的照片


測(cè)試與安裝

在太陽(yáng)模擬器系統(tǒng)的生產(chǎn)階段,開(kāi)發(fā)了一個(gè)*殊的 3 軸電動(dòng)測(cè)量平臺(tái),以測(cè)量整個(gè)目標(biāo)體積的輻照度分布和空間均勻性。

該系統(tǒng)能夠在 280nm-700nm 區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)與所需光譜輪廓幾乎*美的光譜匹配。


用于高空大氣污染研究的 UV 太陽(yáng)光模擬器

科學(xué)技術(shù)工程師組裝和測(cè)試*終的太陽(yáng)模擬器系統(tǒng)

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激光控制:激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等

探測(cè)器:光電探測(cè)器、單光子計(jì)數(shù)器、單光子探測(cè)器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

定位與加工:納米定位系統(tǒng)、微納運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、多維位移臺(tái)、旋轉(zhuǎn)臺(tái)、微型操作器等等

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光學(xué)元件:各類(lèi)晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等

染料:激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等



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