刻蝕設備儀表球閥選型要點解析

來源：沅亨流體科技（昆山）有限公司 2026年07月09日 13:46

在半導體刻蝕工藝中，閥門雖小，卻直接關系晶圓良率。一顆閥門的泄漏或顆粒析出，都可能導致產品報廢。

一、材質耐腐蝕性

刻蝕介質會有腐蝕性。干法刻蝕使用硅烷、氯氣等特種氣體；濕法刻蝕涉及王水等化學品。JPE沅亨鑄造球閥提供SS304、SS316L等材質，其中SS316L因低碳含量和優(yōu)異的耐晶間腐蝕性能，廣泛應用于半導體行業(yè)。

提供一片式、二片式、三片式三種結構，壓力覆蓋1000psig和2000psig，接口尺寸1/4至1-1/4英寸，支持卡套、NPT、BSPT、套焊等連接方式。

jpe三片式球閥.png

流道死角易造成雜質沉積。JPE沅亨配備無塵室進行潔凈裝配，從原材料到包裝全流程貫徹潔凈度控制。

半導體級閥門的內泄漏率要求低于1×10?? atm·cc/sec He。JPE沅亨配備氦質譜檢測設備，部分產品通過ISO 15848認證。

JPE球閥.png

已獲得ISO 9001、ISO 14001、ISO 45001、ASTM F1387、ISO 15848、EC-79等多項國際認證。

堅持100%工廠精確測試，配備數控車床、加工中心、關節(jié)式機器人等先進設備

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