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真空用步進(jìn)電機(jī)
? 兩大基礎(chǔ)系列
(兩相)步距角:1.8°法蘭規(guī)格:28/42/56/60/86mm(NEMA 標(biāo)準(zhǔn))適合:一般高真空,半導(dǎo)體真空平臺、真空平移臺
(五相,真空主力款)?步距角:0.72°,細(xì)分后定位精度ji gao 、振動(dòng)小法蘭:28/42/60mm優(yōu)勢:低速平穩(wěn)、分辨率高,是真空精密定位shou xuan ;可做到UHV 超高真空,最高耐溫可達(dá) 200℃,可做耐輻照版本(空間 / 核設(shè)備)
繞組:Kapton 聚酰亞胺低放氣絕緣,無普通油漆
軸承潤滑:UHV 版本采用固體干膜潤滑(二硫化鉬);高真空版本全氟聚醚真空潤滑脂;出廠烘烤除氣,控制 TML/CVCM 放氣指標(biāo)
線纜:PI/PTFE 低逸出導(dǎo)線,真空饋通接頭配套,普通橡膠線纜全部剔除
殼體:無噴漆,不銹鋼 / 裸鋁合金
可選配置:內(nèi)置真空編碼器閉環(huán)(防失步)、真空電磁剎車、減速齒輪(諧波 / 行星減速)、雙出軸
驅(qū)動(dòng)器依然放在大氣側(cè),不進(jìn)真空腔
低真空、高真空、超高真空 UHV(10??Pa 級別)均可定制
UHV 機(jī)型支持高溫烘烤除氣(腔體烘烤)
散熱:真空無對流,必須降額使用,高功率方案可增加熱沉 / 水冷
極限耐溫:最高 200℃,可定制低溫版本
半導(dǎo)體 PVD/ALD 鍍膜機(jī)、真空探針臺、真空光學(xué)調(diào)整臺、電子顯微鏡內(nèi)部運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、同步輻射、航天真空艙、科研超高真空實(shí)驗(yàn)平臺。
目標(biāo)真空度(是否 UHV、是否需要腔體烘烤溫度)
法蘭尺寸(28/42/60…)、保持扭矩、轉(zhuǎn)速、占空比
兩相 1.8° / 五相 0.72°
是否要內(nèi)置編碼器、剎車、減速
放氣指標(biāo) TML/CVCM、是否耐輻射
線纜出線方式、饋通接口

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