基本原理

載有高頻電流內(nèi)線圈, 在其周圍空間產(chǎn)生高頻磁場, 若金屬導(dǎo)體置于此高頻磁場中, 則在磁場一均作用下金屬導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生渦流, 此渦流產(chǎn)生的磁場又反作用于激勵(lì)線圈約磁場而使線圈的阻抗發(fā)生變化。線圈阻抗的變化與金屬的導(dǎo)磁率、導(dǎo)電率、幾何形狀、線圈的幾何形狀、所載電流的頻率以及金屬導(dǎo)休與激勵(lì)線圈間的距離有關(guān)。若控制其他參數(shù)不變, 使線圈阻抗只同距離有關(guān), 則可以用渦流法測定難熔金屬上各種涂層厚度。


產(chǎn)生渦流原理圖_渦流測厚儀
圖1 產(chǎn)生渦流原理圖
結(jié)構(gòu)和性能

本渦流測厚儀全部用晶體管制成, 共分六個(gè)部分, 即穩(wěn)壓電源, 2Mf振蕩器, 探頭諧振電路, 隔離電路, 寬頻帶放大器, 指示電路。實(shí)物照片見圖2。

本儀器分四檔, 總量程0-700 微米, 靈敏度±2 微米。探頭加有彈簧裝置, 以保持每次測量時(shí)探頭與被測物之間相對壓力不變, 從而保證測量的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。

本測厚儀基本上用于平板上的涂層測厚, 對曲率半徑大于20 毫米的曲面亦可應(yīng)用。但對形狀復(fù)雜的部位, 尤其是邊緣部位, 因磁場畸變而受到限制。渦流測厚儀既可測量熔燒后的涂層厚度, 亦可測量熔燒前的涂層( 料漿) 厚度, 因而可以保證熔燒涂層均勻。它可用于氧化機(jī)理的研究。氧化膜厚度的增加與曝露溫度及時(shí)間有關(guān)。當(dāng)把樣品從加熱爐中定期取出進(jìn)行測厚時(shí),可以發(fā)現(xiàn)氧化膜增厚的規(guī)律。從而可以預(yù)測抗氧化壽命。