拋光是金相制樣的z后一道工序，為了是消除樣品研磨時(shí)樣品表面留下的一些磨痕，z終得到光滑、平整的鏡面效果。的拋光效果是光

滑、平整無摩擦痕跡。

樣品拋光的質(zhì)量取決于研磨時(shí)所留下磨痕的粗細(xì)和均勻程度，拋光實(shí)際上只能去除表面一層很薄的金屬。若前期的研磨沒做好，一味的去拋

光也不會(huì)得到的鏡面效果，只能從新進(jìn)行研磨加工再拋光。

拋光的方式分為機(jī)械式拋光和化學(xué)式拋光等幾種機(jī)械拋光

當(dāng)前應(yīng)用*廣的是機(jī)械拋光，它是在專用的金相試樣拋光機(jī)上進(jìn)行。細(xì)磨后的試樣沖洗后，將磨面置于拋光機(jī)圓盤上拋光。按拋光微粉

(磨料)粒度，分為粗拋與精拋。粗拋時(shí)所用拋光微粉顆粒直徑為1~6um，精拋用微粉顆粒直徑在0.3~1um之間。對(duì)較軟的有色金屬必須進(jìn)

行

粗拋與精拋，但對(duì)鋼鐵材料僅需粗拋即可。機(jī)械拋光設(shè)備

目前中國臺(tái)灣TOPTECH金相試樣拋光機(jī)有手動(dòng)單盤E-FR型和雙盤E-FRD型種。都是由電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)拋光盤旋轉(zhuǎn)。拋光盤用銅或鋁澆鑄而成，直徑

200~300mm。使用時(shí)將拋光布裝在盤上，倒上拋光液，啟動(dòng)后將樣品輕壓在拋光盤上，沿徑向往復(fù)緩慢移動(dòng)，并且與拋光盤轉(zhuǎn)動(dòng)的逆旋轉(zhuǎn)方向輕微轉(zhuǎn)動(dòng)。普通的拋光機(jī)均需人工握持試樣操作，效率較低，勞動(dòng)強(qiáng)度大，不適應(yīng)大批量試樣制備的需要。因此，要求拋光設(shè)備向半自動(dòng)、全自動(dòng)、高效率方向發(fā)展。目前，使用夾具，同時(shí)夾持幾個(gè)、十幾個(gè)試樣，在一定壓力下進(jìn)行拋光的半自動(dòng)拋光機(jī)、全自動(dòng)拋光機(jī)、振動(dòng)拋光機(jī)等在國內(nèi)外已有使用。

相確拋光機(jī)分類:

自動(dòng)研磨拋光機(jī)MirFace S/MirFace 2S

振動(dòng)拋光機(jī)MetaPOL 9000

全自動(dòng)磨拋機(jī)Mir Face MS

單雙盤手動(dòng)磨拋機(jī) MetaPOL 系列

金相研磨拋光機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

1.自動(dòng)研磨頭，可掀式頭部，可控制研磨頭啟動(dòng)停止。

2新型研磨盤，裝取砂紙、清潔，保養(yǎng)快速容易。

3雙盤設(shè)計(jì)，研磨頭可左右移動(dòng)，研磨拋光不共用，提升拋光品質(zhì)。

4新型拋光盤，裝取絨布、清潔，保養(yǎng)快速容易。

5轉(zhuǎn)盤旋向可調(diào)，同向旋轉(zhuǎn)是精執(zhí)禁，反向旋轉(zhuǎn)是粗拋磨，快速省時(shí)高精度。

6.高效能無刷馬達(dá)，低轉(zhuǎn)速，高扭力。使用壽命長，運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定確保研磨拋光精度

7轉(zhuǎn)速可調(diào)，可依不同材質(zhì)樣品，自行調(diào)整轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速，獲取精度。

8.轉(zhuǎn)速數(shù)位化，數(shù)字顯示快速明確

9快速插座，總申源開關(guān)，內(nèi)建保險(xiǎn)絲裝置

如果有需求可以隨時(shí)聯(lián)系我：

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