樣品名稱

試樣處理

儀  器

分析條件

測(cè)定方法及試樣組成

功率

/kW

冷卻氣

/L·min-1

載氣

光盤(pán)薄膜

酸溶解

ARL-3580

1.25

12

1.0L/min

歸一法，不稱樣重，Se72.17%，Te3.36%，Sn24.37%

CoCr薄膜及Sm，Co，Cu，Zr，Fe合金

HNO3-HCl溶樣

Jarrell-Ash 800多道光譜儀

1.1

18

用亞微量樣品不準(zhǔn)確稱量法，Co 84.8%，Cr 15.2%，Sm 26.3%，Co 49.7%，Cu 5.87%，Zr 2.37%，Fe 14.8%

釔鎵石榴

石晶體

HNO3-HCl溶解

Jarrell-Ash 800

1.1

16

0.3L/min

Sc 0.6（μg/ml，下同）

Tb 1.0   Nd 5.0

Eu 4.0   Cr 0.6

硼酸鋁釔

釹晶體

NaOH高溫熔融，HCl浸取

WP1-G攝譜儀

0.21MPa

Nd檢出限為0.4μg/ml，NCl 0.5%~2.4%  Lu 0.75%~4.0%

鋁酸釔晶體

鹽酸溶解

WPS-1

攝譜儀

0.78L/min

Ho 0.75%~4.0%，Er 0.75%~4.0%，

Ce 0.4%~2.0%

硝酸鍶晶體

去離子水及硝酸溶樣

IRIS/AP

1.15

15

0.5L/min

Ag，Ca，Ce，Fe，Cu，La，Mg，Mn，Na，Zn的檢出限0.1~16ng/ml回收率90%~116%

釩酸鈣晶體

硝酸溶解

TJA IRIS/AP

1.15

15

0.22/MPa

Nd，Yb，Ge的檢出限為0.0002~0.018μg/ml

KTiOPO4

晶體及KGd

（WO4）2晶體

硝酸及溶樣

Jobin Yvon，JY38

1.0

15

0.5L/min

檢出限/%

Nd 2.4×10-3 Ho 7.0×10-4 Eu 2.3×10-3 Er 3.2×10-4 Yb 2.0×10-4

樣品名稱

樣品處理

光譜儀

分析條件

主要結(jié)果

功率

/kW

冷卻氣

/L·min-1

載氣

陶瓷原料

（硅鋁酸鹽）

HClo4-HNO3-HF分解或Na2B4O7-NaKCO3熔融

Pekin-Elmer 1000

1.0

15

—

測(cè)定磷的檢出限為0.2mg/g

古代陶瓷

堿熔（Li2O3-H3BO4）酸溶HF-HNO3-HClO4

Jarrell-Ash-

9000

1.10

15

0.5L/min

多元素同時(shí)分析的測(cè)定限（μg/g）：45（Si），32（Al），65（Fe），23（Ca），50（Mg），2（Mn），2（Ti），64（P），3.5（Zr），2.5（Ba），3.5（Co），9.5（Ni），3.5（V），2.5（Sr），21（Pb），6（Zn），5（Cr），20（Ga）

氧化鋁粉

鹽酸高壓溶樣

JY 38S

1.5

14

—

Fe，Si，Ca，Ti，V的檢出限為0..34~52ng/ml

保溫材料

（巖棉，，復(fù)合硅鋁酸鎂）

HF-HCl4-HCl溶樣

Vista CCD 光譜儀

1.2

15

0.7L/min

檢出限/μg·ml-1

Na2O 0.005，

K2O 0.002

熒光材料

（SrAl2O4-Eu及CaAl2O4-Eu）

鹽酸高壓溶樣

JY-238

1.0

15

0.8L/min

樣品組成/%

30.9（Al），24.4（Ca）

0.38（Sr），0.58（Nd），

0.67（Dy），1.23（Eu）

玻璃粉

HCl-HF 高壓溶樣

ARL品3580

1.1

12

1.0L/min

樣品組成/%

16.3（B2O2），3.73（K2O），0.12（Na2O），余量為SiO2

鋯基陶瓷材料

HCl-HF-H2SO4溶樣

JY 38VHR

13

0.3L/min

樣品組成/%

87（ZrO2），12（CeO2），

1（TiO2）

工業(yè)硅

HNO3-HF溶樣硫酸處理

PE Plasma Ⅱ

1.2

14

1.0L/min

典型分析結(jié)果/%

0.73（Fe），0.45（Al），0.60（Ca）

試樣名稱

樣品處理

光譜儀

分析條件

主要結(jié)果

功率

/kW

冷卻氣

/L·min-1

載氣

高純氮化硅

硝酸鈉及*熔融（1000℃），氫氧化鑭共沉淀雜質(zhì)分離

ICAP-500

檢出限/μg·g-1

0.6（Al，Cu，Ni）0.1（Ba，Ca，Mg，Mn，Sr）0.4（Cr，Fe，Zn）0.2（Ti）

高純硅，氮化硅，碳化硅

微柱螯合樹(shù)脂分離

日立P-5200及JY-48P光譜儀

1.2

16

0.4

測(cè)定Al，Ba，Ca，Ni，Pb，U，Th等21個(gè)微量元素

氮化鋁及氮化硼燒結(jié)體

高壓硫酸或鹽酸分解樣品

ICAP-1000S

型光譜儀

可測(cè)定Al，Ca，Cr，Cu，Fe，Ga，K，Mg，Na，Si，Ti，V，Y和Zr：檢出限多數(shù)<μg/g（Si，K，Na，Ga除外）

氮化硅

氟化作用電熱蒸發(fā)法漿液進(jìn)樣

檢出限/μg·g-1

0.11（Al），0.09（Ti）

碳化鉭及氮化鉭

用及*高壓溶樣

精工SPS1200A

光譜儀

典型分析結(jié)果/μg·g-1

TaC：2.74（Ca），37.5（Co），

5.5（Cr），71.8（Fe），<0.028（Mg），0.9（Mn），1210（Nb），6.59（Ti），604（W），4.27（Zr）

TaN：2.9（Ca），<1.5（Co），3.27（Cr），76（Fe），0.67（Mg），47.9（Mn），45.3（Nb），6.74（Ti），161（W），19.2（Zr）