1. ICP-MS：大致分為離子源（電感偶和等離子體）和質(zhì)量分析器（磁式速度、方向聚焦分析器；四極桿；飛行時間等）；
ICP-OES：為光源（電感偶和等離子體）、分光系統(tǒng)、檢測系統(tǒng)；
ICP-OES靈敏度高低檢測限，較寬的動態(tài)線性范圍和多元素同時分析，用于痕量及部分常量元素定性定量分析，應(yīng)用的行業(yè)范圍也較廣；ICP-MS具有元素、同位素、形態(tài)分析等定性定量分析能力，檢測下限水平優(yōu)于ICP-OES。
2. 應(yīng)用領(lǐng)域比較接近，只是icp-ms的檢出限要低很多。
3. ICP-OES由于其可以覆蓋PPB級至百分含量范圍，在一般的實驗中運用較多。比如金屬材料（不含超純）、化工等各種行業(yè)。
ICP-MS其檢出限非常低，但是對于總的離子量有限制，因此分析基體復(fù)雜體系的方法檢測限不一定比ICP-OES低。主要在環(huán)保/水質(zhì)/電子材料（尤其是半導(dǎo)體行業(yè)）等方面運用較多。
另外由于ICP-MS對于所使用的試劑的純度、分析用水、實驗環(huán)境等要求均較高，而且儀器使用也較ICP-OES復(fù)雜，因此對于絕大部分分析用ICP-OES就足夠了。
4. 對于擁有ICP-AES技術(shù)背景的人來講，ICP-MS是一個以質(zhì)譜儀作為檢測器的等離子體(ICP)，而質(zhì)譜學(xué)家則認(rèn)為ICP-MS是一個以ICP為源的質(zhì)譜儀。事實上．ICP-AES和ICP—MS的進樣部分及等離子體是極其相似的。ICP-AES測量的是光學(xué)光譜(165-800nm)．ICP-MS 測量的是離子質(zhì)譜，提供在3-250amu范圍內(nèi)每一個原子質(zhì)量單位(amu)的信息，因此，ICP-MS除了元素含量測定外，還可測量同位素。檢出限ICP-MS的檢出限給人極深刻的印象，其溶液的檢出限大部份為ppt級(必需記牢，實際的檢出限不可能優(yōu)于你實驗室的清潔條件)，石墨爐AAS的檢出限為亞ppb級，ICP-AES大部份元素的檢出限為1—10ppb，一些元素在潔凈的試樣中也可得到令人注目的亞ppb級的檢出限。必須指出，ICP— MS的ppt級檢出限是針對溶液中溶解物質(zhì)很少的單純?nèi)芤憾缘模羯婕肮腆w中濃度的檢出限，由于ICP-MS的耐鹽量較差，ICP-MS檢出限的優(yōu)點會變差多達50倍，一些普通的輕元素(如S、Ca、Fe、K、Se)在ICP-MS中有嚴(yán)重的干擾，也將惡化其檢出限。
5. ICP-OES與ICP-MS在用途上的區(qū)別
ICP-MS：大致分為離子源（電感偶和等離子體）和質(zhì)量分析器（磁式速度、方向聚焦分析器；四極桿；飛行時間等）；
ICP-OES：為光源（電感偶和等離子體）、分光系統(tǒng)、檢測系統(tǒng)；

ICP-OES靈敏度高低檢測限，較寬的動態(tài)線性范圍和多元素同時分析，用于痕量及部分常量元素定性定量分析，應(yīng)用的行業(yè)范圍也較廣；ICP-MS具有元素、同位素、形態(tài)分析等定性定量分析能力，檢測下限水平優(yōu)于ICP-OES。
ICP-OES由于其可以覆蓋PPB級至百分含量范圍，在一般的實驗中運用較多。比如金屬材料（不含超純）、化工等各種行業(yè)。

ICP-MS其檢出限非常低，但是對于總的離子量有限制，因此分析基體復(fù)雜體系的方法檢測限不一定比ICP-OES低。主要在環(huán)保/水質(zhì)/電子材料（尤其是半導(dǎo)體行業(yè)）等方面運用較多。

另外由于ICP-MS對于所使用的試劑的純度、分析用水、實驗環(huán)境等要求均較高，而且儀器使用也較ICP-OES復(fù)雜，因此對于絕大部分分析用ICP-OES就足夠了。