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在光纖布拉格光柵(FBG)刻寫、半導(dǎo)體掩膜檢測(cè)、精密微加工等工業(yè)與科研領(lǐng)域,穩(wěn)定可靠的深紫外(DUV)激光光源是實(shí)現(xiàn)高精度制造與測(cè)量的重要基礎(chǔ)。德國(guó)MLase公司出品的MLI系列準(zhǔn)分子激光器,是適配此類嚴(yán)苛應(yīng)用的高性能光源;其中型號(hào)為MLI 500 ArF SP LC的設(shè)備,整合波長(zhǎng)特性、功率穩(wěn)定與工業(yè)級(jí)可靠性,成為復(fù)雜工業(yè)流程中的核心配套單元。
該設(shè)備是采用氟化氬(ArF)作為工作氣體的準(zhǔn)分子激光器,輸出波長(zhǎng)為193納米的深紫外光。其型號(hào)代碼“500”代表標(biāo)準(zhǔn)重復(fù)頻率為500赫茲,“LC”表明此型號(hào)配備主動(dòng)液體冷卻系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定、連續(xù)的長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行;后綴“SP”指向特定的定制化配置,例如特殊脈沖模式或硬件接口。整機(jī)采用緊湊化、模塊化設(shè)計(jì),可在標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)基礎(chǔ)上根據(jù)個(gè)性化需求進(jìn)行調(diào)整。
| 參數(shù)類別 | 技術(shù)規(guī)格 |
|---|---|
| 波長(zhǎng)與氣體類型 | 193 nm,氟化氬 (ArF) 氣體 |
| 重復(fù)頻率 | max 500 Hz |
| 脈沖能量(穩(wěn)定) | 6 mJ |
| 平均輸出功率 | 3.0 W |
| 脈沖穩(wěn)定性 (Sigma) | ≤ 2% |
| 光束尺寸 (FWHM) | 6 x 3 mm |
| 光束發(fā)散角 | 2 x 1 mrad |
| 核心冷卻方式 | 主動(dòng)水冷(可使用生活用水或外部熱交換器) |
該系列激光器具備良好的工業(yè)可靠性,擁有較長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間與較低的運(yùn)行成本,內(nèi)部采用固體開關(guān)技術(shù),相較于傳統(tǒng)閘流管開關(guān),使用壽命更長(zhǎng)、維護(hù)需求更低。同時(shí)具備優(yōu)異的能量與光束穩(wěn)定性,穩(wěn)定的脈沖能量輸出和均勻的光束輪廓,可確保加工結(jié)果具有良好的一致性與重復(fù)性,脈沖能量穩(wěn)定度(標(biāo)準(zhǔn)差)控制在2%以內(nèi),能夠?yàn)槲⒚准?jí)工藝提供可靠保障。此外,“LC”型號(hào)集成的主動(dòng)水冷系統(tǒng),允許直接使用普通生活用水進(jìn)行冷卻,無需復(fù)雜的去離子水循環(huán)系統(tǒng),大幅簡(jiǎn)化集成難度,提升工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作的熱管理能力。

光纖布拉格光柵(FBG)刻寫是其核心應(yīng)用方向之一,可為光纖傳感器和通信器件制造提供高質(zhì)量光源;在半導(dǎo)體與顯示制造領(lǐng)域,可用于光刻掩膜版(Reticle)的缺陷檢測(cè),以及微光學(xué)元件、TFT等精密結(jié)構(gòu)的加工與劃線;在材料加工方面,適配陶瓷、玻璃、聚合物及復(fù)合材料的精密微鉆孔、切割與表面結(jié)構(gòu)化處理;同時(shí)也可作為脈沖激光沉積(PLD)的適配光源,用于制備高溫超導(dǎo)、光學(xué)等多種功能薄膜,滿足科學(xué)研究與薄膜制備的應(yīng)用需求。
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