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上海伯東代理 KRI 霍爾離子源 eH 1000

參考價(jià)訂貨量

420000

≥1臺

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時(shí)間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10091
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         位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

          另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 德國 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國  HVA 真空閥門, 美國  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!



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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制
上海伯東代理美國* KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
上海伯東代理 KRI 霍爾離子源 eH 1000 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

KRI 霍爾離子源 eH 1000

上海伯東代理美國* KRI

霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.

尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”

放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體



KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽極
寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無需水冷
高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術(shù)參數(shù):

型號

eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

供電

DC magnetic confinement

- 電壓

40-300V VDC

- 離子源直徑

~ 5 cm

- 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-30010A

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

- 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

- 陽極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

- 水冷

前板水冷

- 底座

移動或快接法蘭

- 高度

4.0'

- 直徑

5.7'

- 加工材料

金屬

電介質(zhì)

半導(dǎo)體

- 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

- 安裝距離

10-36”

- 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 1000 應(yīng)用領(lǐng)域:
離子輔助鍍膜 IAD
預(yù)清洗 Load lock preclean
預(yù)清洗 In-situ preclean
Direct Deposition
Surface Modification
Low-energy etching
III-V Semiconductors
Polymer Substrates
霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產(chǎn)品, 包含寬束霍爾離子源和電源控制器, 整體設(shè)計(jì), 易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應(yīng)用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預(yù)清潔 ISSP, 離子蝕刻等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東 : 羅先生                             



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