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考夫曼離子源成功用于多靶磁控濺射鍍膜機(jī)

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  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10208
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         位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

          另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 德國 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國  HVA 真空閥門, 美國  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!



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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制否
某 OEM 廠商為了提高鍍膜機(jī)鍍膜的品質(zhì), 其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.
考夫曼離子源成功用于多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)

某 OEM 廠商為了提高鍍膜機(jī)鍍膜的品質(zhì), 其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.

 

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號

RFICP380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):

離子源型號

eH3000

eH3000LO

eH3000MO

Cathode/Neutralizer

HC

電壓

50-250V

50-300V

50-250V

電流

20A

10A

15A

散射角度

>45

可充氣體

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

氣體流量

5-100sccm

高度

6.0“

直徑

9.7“

水冷

可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

渦輪分子泵 HiPace 2300 技術(shù)參數(shù):

型號

接口 DN

抽速 l/s

壓縮比

z高啟動壓強(qiáng)hPa

極限壓力

全轉(zhuǎn)速氣體流量hPa l/s

啟動時間

重量

進(jìn)氣口

排氣口

氮?dú)釴2

氦氣He

氫氣 H2

氮?dú)釴2

氮?dú)釴2

hPa

氮?dú)釴2

min

kg

HiPace 2300

250

40

1,900

2,000

1,850

> 1X108

1.8

< 1X10–7

20

4

34 – 47

 

鍍膜機(jī)實(shí)際運(yùn)用案例:

采用多靶磁控濺射鍍膜機(jī)在 UO_2 陶瓷 IFBA 芯塊表面上濺射沉積 ZrB_2 涂層,與其他未引用 KRI 離子源和 Pfeiffer 分子泵的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)相比, 引進(jìn) KRI 離子源和 Pfeiffer 分子泵后, 其鍍制的 ZrB_2 涂層附著力明顯提高, 涂層厚度更加均勻, 晶粒更加細(xì)小, 沉積率更高.

 

KRI 離子源的功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

 

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論,  請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生            


關(guān)鍵詞:鍍膜機(jī)
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