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公司介紹主營產(chǎn)品

位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機, 美國 HVA 真空閥門, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本 Atonarp過程質(zhì)譜儀和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進口	加工定制	否

上海伯東代理美國* KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調(diào)整模組間的距離可以實現(xiàn)的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布.

上海伯東代理線性霍爾離子源 eH Linear 產(chǎn)品詳情

價格電議

KRI 線性霍爾離子源 eH Linear

上海伯東代理美國* KRI 線性

離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調(diào)整模組間的距離可以實現(xiàn)的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉(zhuǎn)濺射系統(tǒng).

霍爾離子源 eH 400 尺寸

尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”

放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術(shù)參數(shù)

型號	eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-200V VDC
- 陽極結(jié)構(gòu)	模塊化
電源控制	eHL-30010A
配置	-
- 陰極中和器	Filamentless
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標準或 Grooved
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	10 cm
寬度	10 cm
- 長度	~ 100cm
-工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

Model	eHL 200-3	eHL 200-5
Height (nominal)	2.9” (7.4cm)	2.9” (7.4cm)
Width (nominal)	3.3” (8.4cm)	3.3” (8.4cm)
Length (nominal)	Determined by number of modules & application	Determined by number of modules & application
Cathode/Neutralizer	Yes	Yes
Anode module	Yes	Yes
Filamentless	Yes	Yes
Orientation	Vertical / Horizontal	Vertical / Horizontal
Process gases	Inert, reactive, & organic	Inert, reactive, & organic
Power controller	eH Plasma Power Pack	eH Plasma Power Pack

霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產(chǎn)品, 包含寬束霍爾離子源和電源控制器, 整體設(shè)計, 易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應(yīng)用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預(yù)清潔 ISSP, 離子蝕刻等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東 : 羅先生

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