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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，是日本伯東株式會社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為800萬美元。

本公司主要是一家以經(jīng)營電子接插件、線束、電線以及機(jī)械設(shè)備、中空產(chǎn)品等精密儀器、設(shè)備的維修，以及以半導(dǎo)體制造裝置、基板制造裝置、電腦軟件為主的貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易及保稅區(qū)企業(yè)間貿(mào)易及保稅區(qū)貿(mào)易代理、貿(mào)易及相關(guān)技術(shù)咨詢的公司。

公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則，為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認(rèn)證、 ISO9001－2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001－1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本，不斷開拓進(jìn)取的精神，為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	是

上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.
KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量（Typical flow）:5-30 sccm
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 100 等離子清洗器產(chǎn)品詳情

上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.

KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量(Typical flow):5-30 sccm

采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

適用于離子濺鍍和離子蝕刻, 實(shí)現(xiàn)完美的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學(xué)配合, 蝕刻更均勻.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 100 技術(shù)參數(shù):

型號	RFICP 100
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>350 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	10 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	23.5 cm
直徑	19.1 cm
中和器	LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

伯東 KRI 考夫曼離子源 RFICP 100 應(yīng)用領(lǐng)域:

1. 預(yù)清洗

2. 表面改性

3. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD,

4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

6. 離子蝕刻 IBE

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
Ionfab 300 IBE	面議	上海	牛津儀器科技（上海）有限公司	2023-11-16	在線詢價

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