項目 說明 設備名稱 蒸鍍前清洗機(適用普通LCD與AMOLED工藝產品) 基板尺寸 G2.5~G8.5 適用工藝 適用于蒸鍍前清洗 控制方式 CIM系統(tǒng)+PLC系統(tǒng) 工藝流程 Loading→EUV→Brush→Rinse→BJ→HPMJ→MS+Final Rinse→AK→Unloading 潔凈等級 CLASS100 Tact Time 視工藝而定 工藝效果 1)優(yōu)于98%的洗凈率(1~10μm); 2)無Mura,無水痕,無Roller Mark; 3)接觸角<>(素玻璃測試)。 設備特點 具備FIX TYPE,Scaning Type模式碎片感應; CIM通訊功能與*的數(shù)據(jù)記錄功能; 滾刷自動高度調整與每根滾刷單獨控制功能; 滾刷水平度調整功能; 的Slit BJ系統(tǒng),高打擊力,高潔凈度; 水平衡系統(tǒng),節(jié)約用水; 干濕分離,傳動分離,優(yōu)于Class100的內部工作環(huán)境; 高精密系統(tǒng),流量分布均勻性全局控制在2%以內; 高精密液刀、高精密風刀; 具備槽體清洗功能,清洗液獨立管路排放,減少廠務負擔; 加熱器多重保護,泵浦多重保護功能; *的安全措施:軟件+硬件多重保護; 液刀、風刀智能開啟與關閉功能,節(jié)約能耗。
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