輸入電源：220V 通用  功率：<>

工作電流： 濺射電流：0-50 mA可調(diào)

單次工作時間：0-5分鐘可調(diào)

靶頭數(shù)目：3個

輸出電壓：1600V DC

樣品臺加熱溫度：500℃（選配，詳細請聯(lián)系售后）

采用石英腔體，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

密封：O形密封圈密封

一個外徑50 mm 的樣品臺,用于盛放基片，可以電動控制移動三個位置

濺射距離：濺射距離可調(diào)

可選購加熱型樣品臺（溫度可到500℃）

PID控制器控溫精度+/- 1℃（已集成到觸摸屏上）

控制面板為PLC，4.3" 觸摸屏

一個控制面板可以控制所有的參數(shù),包括真空度,電流,靶材位置和基片加熱溫度

用機械泵真空度達 50 mtorr（僅供參考，詳情請點擊）

用分子泵真空度可達 10-4 torr（僅供參考，詳情請點擊）

一個精密可調(diào)針閥安裝在進氣口，以實現(xiàn)方便的調(diào)節(jié)進氣量

要求安裝靶材的尺寸：直徑Φ47mm,厚度0.5-3mm

可在本公司選購靶材,具體請點擊鏈接

460mm×330mm×540mm (L×W×H)

凈重:50KG（不包括泵）

一年保修，終身技術(shù)支持。

特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

點擊查看售后服務(wù)承諾書。

認證

對于濺射各種金屬靶材，需要摸索的濺射參數(shù)，下表是本公司實驗所設(shè)置的參數(shù)（僅供參考，詳情請點擊）

由于能量低，該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al，Mg，Zn，Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機或熱蒸發(fā)鍍膜機。點擊下面圖片查看細節(jié)

有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜

為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）

在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈

要達到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面

超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。

等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物

制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力

注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體

氣瓶上應安裝減壓閥（設(shè)備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用

濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶