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GD Profiler 2 射頻輝光放電光譜儀

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  • 型號GDProfiler2
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2026-07-06
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量258
  • 人氣值5812
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瓦克科技成立于2009年,總部位于上海,分公司覆蓋杭州、蘇州、寧波、南京、湖南等區(qū)域,且在其它地區(qū)擁有長期固定經(jīng)銷商,是一家專業(yè)從事各種高科技儀器產(chǎn)品的研發(fā)生產(chǎn)、*、技術支持、售后管理于一體的*綜合型企業(yè)。 公司以銷售為龍頭,以研發(fā)為動力,以服務為依托,主要致力于新能源、電子電器、環(huán)境監(jiān)測、質(zhì)檢機構、金屬冶煉、汽車零部件、材料化工、科研高校等各行業(yè)提供成套高科技儀器一站式解決方案及配套優(yōu)質(zhì)技術服務。主要產(chǎn)品涵蓋成分分析類、表面觀察類、物相結構分析類、探傷分析類、力學性能分析類、尺寸檢測類、環(huán)境試驗類及其它行業(yè)專用儀器等,憑借與眾多國際企業(yè)建立長期良好及緊密的戰(zhàn)略合作關系,已取得了矚目的成績,其“一站式儀器解決方案”和“配套式技術服務體系”,深受國內(nèi)外用戶的青睞。 公司秉承“精于科技 誠于服務”的核心價值觀,堅持“以客戶為本、為客戶提供專業(yè)服務”的經(jīng)營理念,與各地分公司及區(qū)域代理商一起為廣大客戶提供高品質(zhì)服務,共同鑄就“成為的高科技專業(yè)儀器與服務提供商”美好愿景。 期待與您:暢游科技前沿,攜手共創(chuàng)輝煌!
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解密鍍層工藝、解析鍍層結構輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等
射頻輝光放電光譜儀 產(chǎn)品詳情
解密鍍層工藝、解析鍍層結構
輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業(yè)有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學玻璃、核材料等。



GD-Profiler 2 作為快鍍層分析的理想工具,適合于導體和非導體復合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。

? 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。
? 采用高動態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-99%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。
? 分析速度快(2-10nm/s)



技術參數(shù)

1、射頻發(fā)生器-標準配置、復合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時間短,表面信息無任何失真。
2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有光效率和靈敏度。
5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-99%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、功能強的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。
8、單色儀(選配)可提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標準。



儀器原理:

輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當施加在放電兩的電壓達到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。
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