Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。
產(chǎn)品特性:
?27.12MHz高密度等離子制程
?SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可對應(yīng)SiO2膜
?以CF4+O2 Plasma實現(xiàn)腔體清潔功能
?可對應(yīng)有機EL(OLED)的低溫成膜用heater
?使用Tray可搬送多種基板尺寸
?通過使用真空Box實現(xiàn)C系列的間接連續(xù)制程(Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)
產(chǎn)品應(yīng)用:
?功率器件
?LED、LD、高速device等化合物相關(guān)
?有機EL(OLED)開發(fā)
?太陽電池開發(fā)
?MEMS
































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