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NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時間2022-08-01
  • 廠商性質其他
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量230
  • 人氣值2576
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NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產生偏壓。
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 產品詳情

NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4DLC薄膜到可達12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵,腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4MFC.帶有無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無論是等離子強度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。

NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)應用:

  1. 等離子誘導表面改性:就是通常所說的用等離子實現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)

  2. 等離子清洗:去除有機污染物

  3. 等離子聚合:對材料表面產生聚合反應

  4. 沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石),以及其它薄膜

  5. CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長:在需要的位置生長CNT或石墨烯。

NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)特點:

  • 緊湊型獨立式系統(tǒng)

  • 不銹鋼或鋁制腔體

  • 極限真空可達10-7Torr

  • RF淋浴頭,HCD或微波等離子源

  • 高達12”(300mm)直徑的樣品臺

  • RF射頻偏壓樣品臺

  • 水冷樣品臺

  • 可加熱到的800 °C樣品臺

  • 加熱的氣體管路

  • 加熱的液體傳送單元

  • 抗腐蝕的渦輪分子泵組

  • 1路載體氣體以及3路反應氣體,帶MFC

  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

  • 菜單驅動,4級密碼訪問保護


關鍵詞:標準
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