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SAL3000原子層沉積系統(tǒng)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時間2022-08-03
  • 廠商性質其他
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量230
  • 人氣值2646
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SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備,該設備最多可搭載6路前驅體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材料的鍍膜。
SAL3000原子層沉積系統(tǒng) 產品詳情

SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)

SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備,該設備最多可搭載6路前驅體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外,還可進一步通過改變鍍膜方向,來進一步提高鍍膜的質量。并且該設備還可搭載互鎖腔體(Load lock Chamber)和手套箱來沉積需要氣氛保護的樣品。

                 

SAL3000原子層沉積系統(tǒng)(圖1)

SAL-3000                                                  SAL3000+Load lock chamber

SAL-3000型號參數(shù).gif

性能及特點:

1.鍍膜質量高SAL-3000原理操作界面.gif

·膜厚均勻性≤3% @ 100mm

·對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性;

·膜厚可準確控制達一個原子層;

·大面積制程可達到無孔洞薄膜(Pin Hole free)

·的重復性及穩(wěn)定性

·材料缺陷密度低

·可成長非晶型或結晶薄膜(選擇溫度)

2.兩種成膜方向可選

·可選擇將薄膜沉積在基底上表面(SAL-3000D)和基底下表面(SAL-3000U),薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風險。

3. 可搭載互鎖腔體(Load lock chamber)和手套箱

4.圖形用戶界面,觸控操作,簡單易用,可存儲30多種鍍膜方案;

5.主機與控制機箱一體化設計;

6. 可搭配多種配件:

干式真空泵,臭氧發(fā)生器,尾氣處理裝置,800℃基底加熱器,200℃前驅體加熱器等,退火設備等;

配件.gif


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