產(chǎn)品優(yōu)勢
● 用于瞬時過程監(jiān)測的鍍膜工藝監(jiān)測器離子源
● 用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的優(yōu)秀檢測限
● 對測量結(jié)果的最小化背景影響
● 壓力高達 10 hPa 的壓差版本
● 多重操作允許帶單個 PC 的多個質(zhì)譜儀系統(tǒng)進行數(shù)據(jù)評估
● 靈活集成的緊湊尺寸
● 通過各種數(shù)字和模擬輸入和輸出,使系統(tǒng)集成方便而靈活
典型應用
● 在高達 10-2 hPa 的壓力下,鍍膜工序的分析可精確到分鐘
● 真空鍍膜系統(tǒng)的制造商和操作員
● 半導體生產(chǎn)
● 玻璃鍍膜
● 薄膜太陽能電池發(fā)電
● 研發(fā)
































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