芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人Tuomo Suntola創(chuàng)立的,與Picosun專家隊(duì)伍被稱為ALD的。
Suntola于1974年發(fā)明ALD技術(shù),因此獲得半導(dǎo)體行業(yè)European SEMI 2004獎(jiǎng)。
PICOSUN公司憑借其杰出的生產(chǎn)型與科研型產(chǎn)品,于2022年6月加入美國應(yīng)用材料公司。
PICOSUN產(chǎn)品分為科研型與生產(chǎn)型。
科研型產(chǎn)品有:
標(biāo)準(zhǔn)型PICOSUN™ R-200 Standard,只有熱法原子層沉積系統(tǒng)
高級型PICOSUN™ R-200 Advanced,有熱法原子層沉積系統(tǒng)與等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)
高級型ALD可以添加前沿的微波等離子體輔助增強(qiáng)模塊Microwave Plasma, 這種微波等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)在顆粒、薄膜致密性表現(xiàn)更好,同時(shí)有可能沉積具有挑戰(zhàn)性的一些氮化物薄膜,如氮化硅等。





































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