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公司介紹主營產(chǎn)品

位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機, 美國 HVA 真空閥門, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本 Atonarp過程質(zhì)譜儀和美國 Ambrell 感應加熱設(shè)備等進口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進口	加工定制	否

合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。
北京某大學實驗室在對硬韌 ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.

KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積 ZrAlN 薄膜產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。

北京某大學實驗室在對硬韌 ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號	RFICP220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	30 cm
直徑	41 cm
中和器	LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

試驗中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 ZrAlN 薄膜, 更好的對 ZrAlN 薄膜進行研究.

KRI 離子源的功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實現(xiàn)的.

因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:

上海伯東: 羅先生

關(guān)鍵詞：真空閥真空泵質(zhì)譜儀

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