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考夫曼射頻離子源RFICP220制備富硅SiNx薄膜

參考價(jià)
360000-1920000
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時(shí)間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10183
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         位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專(zhuān)業(yè)技能和服務(wù)意識(shí),并獲得原廠*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

          另外公司還是美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國(guó) 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國(guó)  HVA 真空閥門(mén), 美國(guó)  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過(guò)程質(zhì)譜儀  和  美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!



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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制
云南某實(shí)驗(yàn)室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 射頻磁控濺射沉積方法在不同溫度的 Si(100)襯底和石英襯底上制備了富硅 SiNx 薄膜, 用于研究硅量子點(diǎn) SiN 薄膜的光譜特性. 該實(shí)驗(yàn)?zāi)康氖莾?yōu)化含硅量子點(diǎn)的 SiNx 薄膜的制備參數(shù), 在硅基光電子器件的應(yīng)用方面有重要意義.
考夫曼射頻離子源RFICP220制備富硅SiNx薄膜 產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)


云南某實(shí)驗(yàn)室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220  射頻磁控濺射沉積方法在不同溫度的 Si100)襯底和石英襯底上制備了富硅 SiNx 薄膜用于研究硅量子點(diǎn) SiN 薄膜的光譜特性該實(shí)驗(yàn)?zāi)康氖?/span>優(yōu)化含硅量子點(diǎn)的 SiNx 薄膜的制備參數(shù), 在硅基光電子器件的應(yīng)用方面有重要意義.
 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號(hào)

RFICP220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦,   平行,   散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

實(shí)驗(yàn)室采用 Fourier 變換紅外光譜、Raman 光譜、掠入射 X 射線衍射和光致發(fā)光光譜對(duì)退火后的薄膜樣品進(jìn)行了表征.

 

KRI 離子源的功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

 

因此,  該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

 

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.

 

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上海伯東羅先生  


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