產(chǎn)品介紹INTRODUCTION

作為一款缺陷形貌分析的精密測(cè)量?jī)x器，其主要目的是對(duì)樣品進(jìn)行缺陷檢測(cè)。

而儀器所提供的數(shù)據(jù)不能允許任何錯(cuò)誤的存在。Park NX20，這款 精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性，在半導(dǎo)體和超平樣品行業(yè)中大受贊揚(yáng)。

大全面的分析功能

ParkNX20具備無(wú)二的功能，可快速幫助客戶(hù)找到產(chǎn)品失效的原因，并幫助客戶(hù)制定出更多具有創(chuàng)意的解決方案。

的精密度為您帶來(lái)高分辨率數(shù)據(jù)，讓您能夠更加專(zhuān)注于工作。與此同時(shí),真正非接觸掃描模式讓探針更耐用， 無(wú)需為頻繁更換探針而耗費(fèi)大量的時(shí)間和金錢(qián)。

即便是次接觸原子顯微鏡的工程師也易于操作

ParkNX20擁有業(yè)界便捷的設(shè)計(jì)和自動(dòng)界面，讓您在使用時(shí)無(wú)需花費(fèi)大量的時(shí)間和精力，也不用為此而時(shí)時(shí)不停的指導(dǎo)初學(xué)者。

借助這一系列特點(diǎn)，您可以更加專(zhuān)注于解決更為重大的問(wèn)題，并為客戶(hù)提供及時(shí)且富有洞察力的失效分析報(bào)告。

特點(diǎn)FEATURES

為FA和研究實(shí)驗(yàn)室提供精確的形貌測(cè)量解決方案

• 缺陷檢查成像和分析。
• 高分辨率電子掃描模式。
• 對(duì)樣品和基片進(jìn)行表面粗糙度測(cè)量
• 樣品側(cè)壁三維結(jié)構(gòu)測(cè)量

低噪聲Z探測(cè)器可精確測(cè)量AFM表面形貌

• 非接觸模式,降低針尖磨損，減少換探針時(shí)間
• 非接觸模式下的快速缺陷成像
• 的三維結(jié)構(gòu)測(cè)量的解耦XY掃描系統(tǒng)
• 通過(guò)使用熱匹配的組件，盡量減少系統(tǒng)漂移和遲滯現(xiàn)象

低噪聲Z探測(cè)器可精確測(cè)量AFM表面形貌

• 業(yè)界的低噪聲Z檢測(cè)器測(cè)量樣品表面形貌
• 沒(méi)有過(guò)沿過(guò)沖和壓電蠕變誤差的真正樣品表面形貌
• 即便是高速掃描也可以保持精確的表面高度
• 行業(yè)的前向和后向掃描間隙橫向飄移小于0.15%

用真正的非接觸掃描方式節(jié)省成本

• 在一般用途和缺陷成像中，具有普通掃描模式10倍或更長(zhǎng)的針尖使用壽命
• 減少針尖的磨損
• 最真實(shí)的再現(xiàn)樣品微觀三維形貌，減少樣品在掃描過(guò)程中的損壞或變形