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ALD-02ALD-02原子層沉積系統(tǒng) ALD

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2023-07-03
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量69
  • 人氣值1864
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詳細(xì)內(nèi)容ALD-02原子層沉積系統(tǒng)ALD產(chǎn)品特點產(chǎn)品參數(shù)產(chǎn)品介紹TheAdvancedALDsystemisaviscousflow-typereactorforultrathinfilmdeposition
ALD-02ALD-02原子層沉積系統(tǒng) ALD 產(chǎn)品詳情
詳細(xì)內(nèi)容
 ALD-02原子層沉積系統(tǒng) ALD
產(chǎn)品特點
產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品介紹
The Advanced ALD system is a viscous flow-type reactor for ultra thin film deposition. The growth process is controlled by a Windows-based software package. The base model is equipped with two gas lines and handles wafer size up to 12 ". With a compact footprint, all hardware is enclosed in a negative pressure cabinet for safety more information.
 
 
產(chǎn)品參數(shù)
Operation Vacuum: 1 Torr to UHV 
2 Heated Gas Lines (can be expanded to 12)
Gas injection mode: bubbler and direct draw
Sample size: up to 4 in standard, optional 12in
Substrate heater: up to 500°C, optional higher temp
 
 
產(chǎn)品介紹
Applications
High k dielectrics
Nanocoatings
Surface modification layers
Device encapsulations
Photonic crystals
Optional add-on components
Remote plasma source
Ozone delivery system
Quartz crystal monitor
Quadruple mass spectrometer
Real-time temperature monitor
Ellipsometer
LoadLock

      
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