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公司介紹主營產(chǎn)品

*代理美國 Thermo、日本 SEIKO 及韓國 Micro Pioneer的 X-射線測厚儀。此儀器主要應(yīng)用于線路板的鍍層或涂層厚度的測量，而且特別適用于對(duì)微細(xì)表面積或超薄鍍層的測量。此外，針對(duì)PCB線路板生產(chǎn)的不同工序，我司亦有以下不同產(chǎn)品可供選擇：1 韓國Micro Pioneer X-射線測厚儀1 美國UPA / VEECO非破壞性厚度測試儀1 美國禾威(WALCHEM)電鍍藥液自動(dòng)添加系統(tǒng)1 日本SEIKO(SII)X射線螢光測厚儀及元素分析儀1 日本KETT手提式渦流 / 磁感測試儀1 美國CECO PCB基材測試系統(tǒng)1 美國ECI電鍍藥液分析系統(tǒng)1 美國UNITRON工業(yè)用顯微鏡系統(tǒng)及表面光滑度測試儀1 美國EXTEC研磨 / 拋光器材及消耗品1 德國SCAN-DIA研磨 / 拋光器材及消耗品1 德國WTW實(shí)驗(yàn)室 / 工業(yè)用水質(zhì)檢查系統(tǒng)1 美國DeltaTRAK溫度測試儀器多年來，我們一直致力于為半導(dǎo)體生產(chǎn)行業(yè)，PCB 廠商及一般電鍍業(yè)等行業(yè)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)，讓客戶滿意，為客戶較大限度創(chuàng)造價(jià)值是我們始終堅(jiān)持的目標(biāo)，因?yàn)槲覀兿嘈?，客戶的需要就是我們前進(jìn)的動(dòng)力。德國SCAN-DIA半自動(dòng)研磨機(jī)德國SCAN-DIA微型低速切片機(jī)美國EXTECH金相切片機(jī)美國EXTECH研磨機(jī)美國EXTECH雙盤研磨機(jī)美國EXTECH自動(dòng)研磨機(jī)取樣切割碟鉆石磨光膏,粉,劑水晶膠凝膠杯沙紙&絨布樣品夾微型*微型真空抽氣泵金相切片測量套裝金相測量軟件美國UNITRON高級(jí)金相顯微鏡美國UNITRON直立式金相顯微鏡美國UNITRON倒立式金相顯微鏡德國 Roentgenanalytik X射線熒光測厚儀

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

DPM-MT多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì)

共立理化學(xué)研究所

DPM-MT是一款采用彩色液晶觸摸顯示屏的水質(zhì)分析儀，用很少的檢水量即可精確測試，配置WAK系列水質(zhì)簡易測定器，共可測試70種以上項(xiàng)目。

多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì) 產(chǎn)品詳情

DPM-MT多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì)

共立理化學(xué)研究所

DPM-MT多項(xiàng)目水質(zhì)計(jì)是一款采用彩色液晶觸摸顯示屏的水質(zhì)分析儀，用很少的檢水量即可精確測試，配置WAK系列水質(zhì)簡易測定器，共可測試70種以上項(xiàng)目。

DPM-MT測定項(xiàng)目及試藥一覽表：

測定項(xiàng)目

測定范圍（mg/L）

測定時(shí)間

試藥型式

試藥No.

備注

鋁

0.050～0.400

5分

LR-Al

24

砷
0.20～3.00

30分

DPR-As

－

硼（高濃度）
5.0～40.0

12分

WAK-B（C）

－

硼

0.50～4.00

40分

WAK-B

－

鈣

0.5～15.0

2分

LR-Ca-B

48

氯化物

2.0～40.0

3分

LR-Cl

10

殘留氯

2～320

1分

WAK-ClO-C

－

殘留氯（游離）

0.10～3.00

1分

WAK-ClO?DP

－

總殘留氯

0.10～3.00

2分

WAK-T?ClO

－

二氧化氯

0.20～6.00

1分

WAK-ClO₂

－

CN

0.020～0.400

10分

WAK-CN

－

總CN

0.10～3.00

〔18分〕

LR-CN^T

46

需總氰檢定器

COD

2.0～10.0

10分

LR-COD-B

44

色度

100～1000度

－

－

－

六價(jià)鉻

0.050～1.400

2分

WAK-Cr⁶⁺

－

總鉻

0.050～1.400

〔12分〕

Cr-RA+WAK-Cr^T

－

需加熱器具

銅

0.10～5.00

1分

WAK-Cu

－

陰離子界面活性劑

0.05～1.20

3分

WA-DET

－

溶解氧

1.0～11.0

2分

AZ-DO-30等

－

需適配器

氟

0.40～1.50

15分

WAK-F

－

鐵

0.20～5.00

3分

WAK-Fe

－

鐵（低濃度）

0.05～2.00

3分

WAK-Fe（D）

－

二價(jià)鐵

0.20～5.00

3分

WAK-Fe²⁺

－

二價(jià)鐵（低濃度）

0.05～2.00

3分

WAK-Fe²⁺（D）

－

甲醛

0.20～1.00

5分

WAK-FOR

－

*（高濃度）

3～200

1分

WAK-H₂O₂（C）

－

*

0.10～2.50

2分

WAK-H₂O₂

－

鉀

2.00～8.00

5分

LR-K

36

COD

2.0～10.0

10分

LR-COD-B

44

錳

0.60～20.0

3分

WAK-Mn

－

銨鹽

0.20～5.00

10分

WAK-NH₄

－

氨氮

0.20～4.00

10分

WAK-NH₄

－

銨鹽（低濃度）

0.05～2.00

30分

LR-NH₄-A

17A

氨氮（低濃度）

0.05～1.50

30分

LR-NH₄-A

17A

鎳

1.00～8.00

5分

LR-Ni

27

鎳（DPM）

0.30～5.00

5分

WAK-Ni（D）

－

亞硝酸鹽（高濃度）

5～100

5分

WAK-NO₂（C）

－

亞硝態(tài)氮（高濃度）

2.0～30.0

5分

WAK-NO₂（C）

－

亞硝酸鹽

0.020～1.000

3分

WAK-NO₂

－

亞硝態(tài)氮

0.010～0.300

3分

WAK-NO₂

－

硝酸（高濃度）（NO₂≦1）

200～2000

5分

WAK-NO₃（C）

－

硝酸（高濃度）（NO₂≦10）

200～2000

〔10分〕

NO₃-RA+WAK-NO₃（C）

－

需加熱器具

硝態(tài)氮（高濃度）（NO₂-N≦0.3）

45～450

5分

WAK-NO₃（C）

－

硝態(tài)氮（高濃度）（NO₂-N≦3）

45～450

〔10分〕

NO₃-RA+WAK-NO₃（C）

－

需加熱器具

硝酸（NO₂=0）

1.0～25.0

5分

WAK-NO₃

－

硝酸（NO₂≦0.2）

1.0～25.0

〔8分〕

WAK-NO₂+WAK-NO₃

－

硝酸（NO₂≦5）

1.0～25.0

〔10分〕

NO₃-RA+WAK-NO₃

－

需加熱器具

硝態(tài)氮（NO₂-N=0）

0.20～5.80

5分

WAK-NO₃

－

硝態(tài)氮（NO₂-N≦0.06）

0.20～5.80

〔8分〕

WAK-NO₂+WAK-NO₃

－

硝態(tài)氮（NO₂-N≦1.5）

0.20～5.80

〔10分〕

NO₃-RA+WAK-NO₃

－

需加熱器具

臭氧

0.25～6.00

2分

WAK-O₃

－

鉛
0.03～0.50

12分

SPK-Pb

－

*

0.20～5.00

8分

WAK-PNL

－

磷酸（高濃度）

2.0～30.0

3分

WAK-PO₄（C）

－

磷酸態(tài)磷（高濃度）

0.70～10.00

3分

WAK-PO₄（C）

－

磷酸

0.10～5.00

3分

WAK-PO₄

－

磷酸態(tài)磷

0.030～1.500

3分

WAK-PO₄

－

磷酸（低濃度）

0.10～3.00

5分

WAK-PO₄（D）

－

磷酸態(tài)磷（低濃度）

0.030～1.000

5分

WAK-PO₄（D）

－

硫化物

0.050～0.800

3分

LR-S

53

硅酸鹽

3.0～60.0

8.5分

WAK-SiO₂

－

硅酸鹽（低濃度）

0.30～7.00

8.5分

WAK-SiO₂（D）

－

硫酸鹽

10～100

3分

DPR-SO₄

－

總硬度

20～100

2分

WAK-TH

－

總氮

0.5～7.0

〔30分〕

DPR-TN

需有機(jī)物分解裝置

總磷

0.10～2.00

〔30分〕

DPR-TP

－

需有機(jī)物分解裝置

濁度

10.0～100.0度

－

－

－

鋅

0.10～2.00

5分

LR-Zn

26

鋅 KCN法

0.15～2.00

6分

LR-ZnB

26B

需KCN

鋅（低濃度）
0.03～0.40

6分

WAK-Zn（D）

－

吸光度

-3.000～3.000Abs

－

－

－

	測定范圍（mg/L）	測定時(shí)間	試藥型式	試藥No.	備注
鋁	0.050～0.400	5分	LR-Al	24
砷	0.20～3.00	30分	DPR-As	－
硼（高濃度）	5.0～40.0	12分	WAK-B（C）	－
硼	0.50～4.00	40分	WAK-B	－
鈣	0.5～15.0	2分	LR-Ca-B	48
氯化物	2.0～40.0	3分	LR-Cl	10
殘留氯	2～320	1分	WAK-ClO-C	－
殘留氯（游離）	0.10～3.00	1分	WAK-ClO?DP	－
總殘留氯	0.10～3.00	2分	WAK-T?ClO	－
二氧化氯	0.20～6.00	1分	WAK-ClO₂	－
CN	0.020～0.400	10分	WAK-CN	－
總CN	0.10～3.00	〔18分〕	LR-CN^T	46	需總氰檢定器
COD	2.0～10.0	10分	LR-COD-B	44
色度	100～1000度	－	－	－
六價(jià)鉻	0.050～1.400	2分	WAK-Cr⁶⁺	－
總鉻	0.050～1.400	〔12分〕	Cr-RA+WAK-Cr^T	－	需加熱器具
銅	0.10～5.00	1分	WAK-Cu	－
陰離子界面活性劑	0.05～1.20	3分	WA-DET	－
溶解氧	1.0～11.0	2分	AZ-DO-30等	－	需適配器
氟	0.40～1.50	15分	WAK-F	－
鐵	0.20～5.00	3分	WAK-Fe	－
鐵（低濃度）	0.05～2.00	3分	WAK-Fe（D）	－
二價(jià)鐵	0.20～5.00	3分	WAK-Fe²⁺	－
二價(jià)鐵（低濃度）	0.05～2.00	3分	WAK-Fe²⁺（D）	－
甲醛	0.20～1.00	5分	WAK-FOR	－
*（高濃度）	3～200	1分	WAK-H₂O₂（C）	－
*	0.10～2.50	2分	WAK-H₂O₂	－
鉀	2.00～8.00	5分	LR-K	36
COD	2.0～10.0	10分	LR-COD-B	44
錳	0.60～20.0	3分	WAK-Mn	－
銨鹽	0.20～5.00	10分	WAK-NH₄	－
氨氮	0.20～4.00	10分	WAK-NH₄	－
銨鹽（低濃度）	0.05～2.00	30分	LR-NH₄-A	17A
氨氮（低濃度）	0.05～1.50	30分	LR-NH₄-A	17A
鎳	1.00～8.00	5分	LR-Ni	27
鎳（DPM）	0.30～5.00	5分	WAK-Ni（D）	－
亞硝酸鹽（高濃度）	5～100	5分	WAK-NO₂（C）	－
亞硝態(tài)氮（高濃度）	2.0～30.0	5分	WAK-NO₂（C）	－
亞硝酸鹽	0.020～1.000	3分	WAK-NO₂	－
亞硝態(tài)氮	0.010～0.300	3分	WAK-NO₂	－
硝酸（高濃度）（NO₂≦1）	200～2000	5分	WAK-NO₃（C）	－
硝酸（高濃度）（NO₂≦10）	200～2000	〔10分〕	NO₃-RA+WAK-NO₃（C）	－	需加熱器具
硝態(tài)氮（高濃度）（NO₂-N≦0.3）	45～450	5分	WAK-NO₃（C）	－
硝態(tài)氮（高濃度）（NO₂-N≦3）	45～450	〔10分〕	NO₃-RA+WAK-NO₃（C）	－	需加熱器具
硝酸（NO₂=0）	1.0～25.0	5分	WAK-NO₃	－
硝酸（NO₂≦0.2）	1.0～25.0	〔8分〕	WAK-NO₂+WAK-NO₃	－
硝酸（NO₂≦5）	1.0～25.0	〔10分〕	NO₃-RA+WAK-NO₃	－	需加熱器具
硝態(tài)氮（NO₂-N=0）	0.20～5.80	5分	WAK-NO₃	－
硝態(tài)氮（NO₂-N≦0.06）	0.20～5.80	〔8分〕	WAK-NO₂+WAK-NO₃	－
硝態(tài)氮（NO₂-N≦1.5）	0.20～5.80	〔10分〕	NO₃-RA+WAK-NO₃	－	需加熱器具
臭氧	0.25～6.00	2分	WAK-O₃	－
鉛	0.03～0.50	12分	SPK-Pb	－
*	0.20～5.00	8分	WAK-PNL	－
磷酸（高濃度）	2.0～30.0	3分	WAK-PO₄（C）	－
磷酸態(tài)磷（高濃度）	0.70～10.00	3分	WAK-PO₄（C）	－
磷酸	0.10～5.00	3分	WAK-PO₄	－
磷酸態(tài)磷	0.030～1.500	3分	WAK-PO₄	－
磷酸（低濃度）	0.10～3.00	5分	WAK-PO₄（D）	－
磷酸態(tài)磷（低濃度）	0.030～1.000	5分	WAK-PO₄（D）	－
硫化物	0.050～0.800	3分	LR-S	53
硅酸鹽	3.0～60.0	8.5分	WAK-SiO₂	－
硅酸鹽（低濃度）	0.30～7.00	8.5分	WAK-SiO₂（D）	－
硫酸鹽	10～100	3分	DPR-SO₄	－
總硬度	20～100	2分	WAK-TH	－
總氮	0.5～7.0	〔30分〕	DPR-TN		需有機(jī)物分解裝置
總磷	0.10～2.00	〔30分〕	DPR-TP	－	需有機(jī)物分解裝置
濁度	10.0～100.0度	－	－	－
鋅	0.10～2.00	5分	LR-Zn	26
鋅 KCN法	0.15～2.00	6分	LR-ZnB	26B	需KCN
鋅（低濃度）	0.03～0.40	6分	WAK-Zn（D）	－
吸光度	-3.000～3.000Abs	－	－	－

關(guān)鍵詞：顯示屏水質(zhì)分析儀加熱器

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