| 納米帶電極技術指標 | 技術參數 | |
| 鍍膜 | 汞膜 | 金膜 |
| 測量元素 | 鋅,鎘,鉛,銅 | 砷{AsIII,AsV},汞 |
| 測量溶液 | 0.5% HNO3 | 0.10-0.15M HCI |
| 測量范圍 | 1-2ppb 至50-100ppb 如果稀釋樣品可測ppm級濃度 | 1-2ppb 至50-100ppb 如果稀釋樣品可測ppm級濃度 |
| 準確度與ICP-MS或 AA相比誤差小于 | 〈10% | 〈10% |
| zui低檢測限 | 鋅:≥2ppb 鎘:≥1.5ppb 鉛:≥0.8ppb 銅:≥1ppb | 砷:≥1.2ppb 汞:≥2ppb |
| 化學試劑消耗品 | 鋅,鎘,鉛,銅標準溶液(20ppm)10% HNO3硝酸鍍汞溶液(300ppm) | 砷,汞標準溶液(20ppm) 2M HCI鹽酸 鍍金溶液(200ppm) |
| 耗材 | 蒸餾水 一次性杯子(30-50毫升) 電極打磨墊(buffing pad) | 蒸餾水 一次性杯子(30-50毫升) 電極打磨墊(buffing pad) |





































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