產(chǎn)品介紹：

       MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統(tǒng)：新型電子光學系統(tǒng)，可達到高水準的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率，使得高品質(zhì)TEM樣品制備成為可能

       可用于截面加工觀察，高品質(zhì)TEM樣品制備，電路修復，Vector Scan加工，微納米級微細圖形及磨具加工，利用沉積功能制作3維構(gòu)造等眾多樣品加工應用。

探針電流90nA，實現(xiàn)快速加工和大面積加工

焊線的截面加工

（加工尺寸　寬：95µm　深：55µm， 加工時間　20min）

通過提高極低加速電壓（0.5kV～）加工及低加速電壓二次電子圖像分辨率，實現(xiàn)制備損傷率更低的TEM樣品

* 1kV以下為選配

可觀察高分辨率SIM成像（二次電子成像分辨率高達4nm@30kV）

采用高精度5軸電動機械優(yōu)中心馬達臺

可在樣品臺移動（包括傾斜）時自動對多個部位進行多種加工。

的操作性能和多種多樣的加工模式

1、截面制備程序加工

2、TEM/STEM樣品程序加工

3、自動連續(xù)加工

4、TEM樣品自動連續(xù)精加工軟件

5、位圖加工

6、Vector Scan加工

7、制備納米精度三維結(jié)構(gòu)樣品 其他

懸空納米導線制作

樣品來源：兵庫縣立大學 松井真二 先生

SIM像三維重構(gòu)分析

       等間隔截面加工與截面觀察的往復進行，可取的多張截面連續(xù)SIM像，并進行3維重構(gòu)。由此可判斷樣品中顆粒，孔洞等3維分布狀態(tài)。

使用多路氣體系統(tǒng)（MGS-II）修復電路

       該系統(tǒng)可對應保護膜材料、配線材料、絕緣膜、加速蝕刻等多種用途，照射多種氣體。

1、鎢沉積氣體

2、鉑沉積氣體

3、絕緣膜制備用沉積氣體

4、氟化氙蝕刻氣體

5、有機類蝕刻氣體

6、碳沉積氣體

使用XeF2氣體實現(xiàn)的大深徑比孔加工以及采用鎢沉積引線

豐富多樣的坐標鏈接功能

       日立公司的坐標鏈接功能豐富多樣，可確定正確的加工位置和大幅縮短時間。

1、光鏡圖像與SIM像的鏈接

     雙光標功能

     日本第4634134號 美國第7595488號

2、與缺陷檢測設(shè)備建立坐標鏈接

     已截斷的晶元或芯片也可與缺陷檢測設(shè)備建立坐標鏈接。

3、CAD聯(lián)用導航軟件

產(chǎn)品規(guī)格：

產(chǎn)品選購件：

1、4通道供氣系統(tǒng)

2、自動連續(xù)加工軟件

3、TEM樣品自動加工軟件

4、控制器顯微鏡 其他

*：可選擇其他MI系列的各種選配件。