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SENTECH-沉積刻蝕多腔互聯(lián)系統(tǒng)

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2024-08-11
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)上海
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量167
  • 人氣值3769
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上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測(cè)設(shè)備、封裝設(shè)備、測(cè)試設(shè)備。目前公司已成為國(guó)內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測(cè)、封裝、測(cè)試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士,擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
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SENTECH 多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機(jī)械手臂,可適用于三至六個(gè)端口??墒褂枚噙_(dá)兩個(gè)片盒站來增加產(chǎn)量。傳送腔室可配備多種選擇。
SENTECH-沉積刻蝕多腔互聯(lián)系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

沉積刻蝕多腔互聯(lián)系統(tǒng)

RIE&CVD Cluster System

高產(chǎn)能:等離子蝕刻和沉積腔體可與多達(dá)兩個(gè)片盒站組合,用于到 200 mm 晶片的高產(chǎn)量工藝。

研發(fā):三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成 ICP 等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD 和 ICPECVD 沉積設(shè)備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可通過預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。

高質(zhì)量的多腔系統(tǒng):ICP-RIE 等離子刻蝕腔體可與兩個(gè)片盒站組合用于 200mm 晶片的高產(chǎn)量并行工藝。

ICP-RIE,RIE,PECVD 和 ICPECVD 等腔體可與預(yù)真空室,片盒站等組合使用,以滿足研發(fā)的特殊要求。

SENTECH 多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機(jī)械手臂,可適用于三至六個(gè)端口。可使用多達(dá)兩個(gè)片盒站來增加產(chǎn)量。傳送腔室可配備多種選擇。

用于研發(fā)的 SENTECH 多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。*的控制軟件可用于工業(yè)領(lǐng)域高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)。

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