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公司介紹主營產品

上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領域的設備銷售、系統(tǒng)集成、設備國產化的公司。主要為高校、研究所、中試量產線及晶圓FAB廠提供半導體工藝設備、檢測設備、封裝設備、測試設備。目前公司已成為國內少數幾家專業(yè)提供半導體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復旦大學、上海微系統(tǒng)所等半導體相關專業(yè)博士，擁有一支經驗豐富、技術過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務。目前公司已與眾多國際半導體設備企業(yè)建立了良好的合作關系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據用戶的科研方向和量產的器件類別提供相應的全套設備選型和工藝整體解決方案。

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產品簡介在線詢價

Etchlab 200 RIE 等離子刻蝕機代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結合了 RIE 的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。

SENTECH-反應離子刻蝕機 - (Etchlab 200) 產品詳情

反應離子刻蝕

Reactive Ion Etching - RIE

Etchlab 200 是 SENTECH 開發(fā)的高性價比刻蝕機，采用平行板電極設計和直接載片方式。操作簡單和快速的樣品加載是設備的主要特點，從零散碎片到直徑為 200 mm 的晶圓可直接加載到電極或載片盤上。靈活性、模塊性和占地面積小是該設備的優(yōu)點。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口能方便地集成 SENTECH 激光干涉儀或 OES 和 RGA 系統(tǒng)。腔體側面的橢偏儀端口可用于 SENTECH 原位橢偏儀進行原位檢測?？煽涛g的材料包括但不限于硅和硅化合物、化合物半導體、介質和金屬。

升級預真空室

設備主要特點

● 低成本效益高：Etchlab 200 反應離子蝕刻機臺結合了平行板等離子體設計與直接置片，操作簡單方便，性價比高。

● 升級擴展性：基于模塊化設計，等離子蝕刻機 Etchlab 200 可升級為更大的真空泵組，預真空室和更多的氣路。

● SENTECH控制軟件：該等離子刻蝕機配備了用戶友好的*軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝編輯窗口，數據記錄和用戶管理，使用遠程現場總線技術和用戶友好的通用用戶界面。

應用展示

介質刻蝕

Etchlab 200

● RIE 等離子蝕刻機

● 開蓋設計

● 適用于 200 mm 的晶片

● 用于激光干涉儀和 OES 的診斷窗口

● 選配橢偏儀接口

帶預真空室的 Etchlab 200

● 帶預真空室的 RIE 刻蝕機

● 適用于 4 到 8 英寸的晶片

● 小片或碎片的載片器

● 氯基刻蝕氣體

● 更大的真空泵組

Etchlab 200 - 300

● RIE 等離子蝕刻機

● 開蓋設計

● 適用于 300 mm 的晶片

● 用于激光干涉儀和 OES 的診斷窗口

關鍵詞：激光干涉儀橢偏儀真空泵

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