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WMS-208AT型激光非接觸式厚度分選機(jī)

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地北京市
  • 更新時間2024-11-19
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量9
  • 人氣值396
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北京三禾泰達(dá)技術(shù)有限公司成立于2003年1月21日2018~2020年間共取得11項(xiàng)產(chǎn)品軟件著作權(quán)2018年激光干涉測平儀項(xiàng)目獲得北京市朝陽區(qū)頒發(fā)的研發(fā)能力提升獎勵2020年被認(rèn)定為企業(yè)。2021年被認(rèn)定為中關(guān)村企業(yè)2021年2月有10項(xiàng)實(shí)用新型申請被國家局受理。十幾年來公司通過在測量領(lǐng)域的深耕和拓展,為市場提供了數(shù)款性價(jià)比的測量儀器,其中7種儀器。公司產(chǎn)品主要面向五個大的市場方向: 半導(dǎo)體WAFER平面度/厚度檢測、光學(xué)玻璃幾何參數(shù)特征檢測、利用近紅外光進(jìn)行砷化鎵/硅晶體缺陷檢測、壓電水晶諧振器電學(xué)參數(shù)檢測以及激光傳感器應(yīng)用研究,我們的產(chǎn)品包括:LINT-208G型WAFER平坦度半自動測試儀,該儀器目前;LINT-208G型WAFER平坦度/厚度全自動測試系統(tǒng),該儀器目前;LST-208H型共聚焦法平面度測試儀,該系統(tǒng)處于國內(nèi)水平;ALC-2120型在線自動研磨頻率控制儀,該儀器當(dāng)年;ALC-SI型硅在線自動研磨厚度控制儀,該儀器當(dāng)年;TCS-A型電渦流在線研磨厚度控制儀,該儀器目前;ABS-2000型壓電水晶BLANK頻率分選機(jī)TMI-A型激光厚度測量儀,該儀器目前;WMS-208AT型WAFER 激光全自動厚度分選機(jī),該儀器市場反應(yīng)良好;我們的宗旨是通過向世界提供高技術(shù)高精度的測量儀器和高水平的服務(wù)提升中國在檢測及激光傳感器領(lǐng)域的總體水平。我們的目標(biāo)是在激光測量領(lǐng)域做到世界。
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WMS-208AT型激光非接觸式厚度分選機(jī)設(shè)備性能及技術(shù)參數(shù):1.設(shè)備功能實(shí)現(xiàn)全自動對碳化硅、單晶硅、多晶硅、鍺、砷化鎵、藍(lán)寶石、陶瓷板、手機(jī)面板玻璃、藍(lán)玻璃、石英晶體片材等各種WAFER平板材料厚度等幾何特征及電學(xué)參數(shù)的精確測量及記錄
WMS-208AT型激光非接觸式厚度分選機(jī) 產(chǎn)品詳情
WMS-208AT型激光非接觸式厚度分選機(jī)
WMS-208AT型激光非接觸式厚度分選機(jī)

設(shè)備性能及技術(shù)參數(shù): 1.設(shè)備功能

實(shí)現(xiàn)全自動對碳化硅、單晶硅、多晶硅、鍺、砷化鎵、藍(lán)寶石、陶瓷板、手機(jī)面板玻璃、藍(lán)玻璃、石英晶體片材等各種 WAFER 平板材料厚度等幾何特征及電學(xué)參數(shù)的精確測量及記錄。

2.適用范圍

可用于測量工件尺寸為 Φ2---Φ8(INCH)直徑的圓形及方型晶片或其它任意材質(zhì)的平板。

3.測量精度及量程

厚度量程:100---1800um,測量精度與 WAFER 表面光潔度有些許聯(lián)系, 即:

測量重復(fù)精度(半導(dǎo)體類雙拋表面 WAFER):±0.5um ;

測量重復(fù)精度(半導(dǎo)體類研磨表面 WAFER): ±1um ;


測量重復(fù)精度(藍(lán)寶石類單拋表面 WAFER):±2um ; 4.工作模式選擇

本機(jī)共有五種測量模式以對應(yīng)用戶不同的需求。

4.1 標(biāo)準(zhǔn)一電測量:按照半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對 WAFER 中心點(diǎn)的厚度進(jìn)行測量。

4.2 標(biāo)準(zhǔn) 5 點(diǎn)測量:按照半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對 WAFER 的靠近邊沿的 4 點(diǎn)(左上、左下、右上及右下)及中心點(diǎn)的厚度進(jìn)行測量。

4.3 企業(yè)內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)一點(diǎn)測量:用戶自己定義的 WAFER 缺口附近的一個點(diǎn)的厚度進(jìn)行測量。

4.420 點(diǎn)以內(nèi)隨機(jī)點(diǎn)測:用戶自己根據(jù)生產(chǎn)需要可以在 20 個點(diǎn)以內(nèi),用鼠標(biāo)在 WAFER 上選擇任意位置并對其厚度進(jìn)行測量。

4.5 連續(xù)點(diǎn)測量:在由兩個端點(diǎn)確定的一條直線路徑上可以進(jìn)行 100 點(diǎn)的連續(xù)厚度測量以檢查晶片的表面形態(tài)。

5.分選速度

為了保證不造成對 WAFER 表面造成損傷,研究人員建議的安全分選速度為:

>單點(diǎn)或中心測量模式速度: ≥130 片/小時

>標(biāo)準(zhǔn) 5 點(diǎn)測量速度:≥110 片/小時

關(guān)鍵詞:標(biāo)準(zhǔn)
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