WaveMaster® PRO 2 / PRO2 Wafers 是全自動(dòng)波前測(cè)量系統(tǒng)，配有夏克·哈特曼傳感器，用于透鏡和光學(xué)鏡片的串聯(lián)測(cè)試

大量生產(chǎn)小塑料或玻璃鏡片，光學(xué)窗的質(zhì)量和效率要求不斷提高。在大規(guī)模生產(chǎn)中使用波前測(cè)量技術(shù)可以產(chǎn)生很大的優(yōu)化能力。 WaveMaster® PRO 2和 PRO 2 Wafers典型的測(cè)量時(shí)間為2秒。每個(gè)光學(xué)元件可以讓托盤和晶圓快速更換。滿足在大批量生產(chǎn)中使用的條件。關(guān)于測(cè)量技術(shù)。WaveMaster® PRO 2和PRO 2 Wafer通過夏克·哈特曼傳感器確定衍生各種參數(shù)的波前。然后對(duì)每個(gè)鏡頭執(zhí)行與設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的比較。一個(gè)很好的數(shù)據(jù)池，用于生產(chǎn)中的其他優(yōu)化。

*測(cè)量時(shí)間，少于透鏡2秒；

*全自動(dòng)檢測(cè)大量樣本；

*用戶可選擇“通過/未通過”標(biāo)準(zhǔn)；

*或相對(duì)式測(cè)量；

*完整的波前分析（PV、RMS、Zernike、PSF、MTF、Strehl）;

*兩種可行設(shè)置：檢測(cè)球面、非球面元件（透鏡或晶圓）；

檢測(cè)平面元件（單表面或晶圓）；

*輸出所有檢測(cè)結(jié)果；

*可選擇：集成能夠測(cè)量晶圓取向、表面翹度和傾斜的系統(tǒng)；

應(yīng)用

質(zhì)量控制：

*球面、非球面元件；

*光學(xué)窗口；

*濾光片；

*光學(xué)晶圓；

夏克·哈特曼波前傳感器相關(guān)功能：

*Zernike系數(shù)數(shù)據(jù)；

*導(dǎo)入波前理論數(shù)據(jù)與測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)比；

*通過波前分析確定成像質(zhì)量（MTF）、材料缺陷、生產(chǎn)錯(cuò)誤；

*楔角（可選擇）；

*EFL（可選擇）；

在托盤的上的晶片和單透鏡的波前測(cè)量

WaveMaster^®軟件控制WaveMaster^® 設(shè)備進(jìn)行檢測(cè)。它具有簡(jiǎn)明清晰的操作界面，包含測(cè)量與分析的功能。軟件與夏克·哈特曼傳感器進(jìn)行通訊，能夠?qū)Σㄇ皵?shù)據(jù)進(jìn)行實(shí)時(shí)分析。除此之外.WaveMaster^® PRO軟件含有配合WaveMaster^® PRO 2 與WaveMaster^® PRO 2 Wafer生產(chǎn)系統(tǒng)的測(cè)量模塊。

軟件優(yōu)勢(shì)

*自動(dòng)通過或失敗的結(jié)果基于眾多可自由選擇的標(biāo)準(zhǔn)；

*實(shí)時(shí)測(cè)量和分析；

*顯示波前、PV和RMS，強(qiáng)度和實(shí)時(shí)相機(jī)圖像；

*Zernink傾斜和散焦系數(shù)的波前校正；

*測(cè)量區(qū)域的可調(diào)節(jié)性；

*圓形、矩形和橢圓形的測(cè)量區(qū)域；

*在測(cè)量區(qū)域編輯器中實(shí)時(shí)顯示相機(jī)成像；

*證書保存；

*相機(jī)圖像平均化；

*用戶以不同級(jí)別的用戶權(quán)限登錄；

*整個(gè)系統(tǒng)是軟件控制的；