產(chǎn)品簡介
AluVac系列可提供200A蒸鍍電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)600°C，能夠滿足大部分有機(jī)材料的蒸鍍，可按客戶需求定制更高蒸鍍溫度；真空腔室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料，采用方形結(jié)構(gòu)，內(nèi)部空間充足；可設(shè)置16組不同的蒸發(fā)材料，可滿足各種復(fù)雜的蒸鍍條件；搭配分子泵可達(dá)優(yōu)于5*10-4Pa的真空度，適應(yīng)絕大部分蒸發(fā)材料所需真空環(huán)境。
產(chǎn)品特點(diǎn)
□ 自動切換掩膜系統(tǒng)；
□ 自動開關(guān)腔體，自動抽真空、退真空系統(tǒng)；
□ 自動鍍膜工藝；
□ *的錯(cuò)誤檢測系統(tǒng)
□ 優(yōu)異的鍍膜均勻性；
□ 提供定制化服務(wù)。
產(chǎn)品應(yīng)用
□ 有機(jī)分子薄膜制備；
□ 半導(dǎo)體薄膜制備；
□ 光學(xué)薄膜制備；
□ 金屬電極制備；
□ 典型樣品：OLED、鈣鈦礦、薄膜電池、薄膜晶體管等。
功能參數(shù)
□ 蒸發(fā)源數(shù)量：2~16組可選；
□ 蒸發(fā)電流：0~200A連續(xù)可調(diào)；
□ 蒸發(fā)電源模組：1~10組可選，功率600W,1200W,1500W可選；
□ 極限真空：優(yōu)于4*10-5Pa；
□ 樣品與蒸發(fā)源距離：固定或0~70mm可調(diào)；
□ 鎢舟擋板：按蒸發(fā)源標(biāo)配，2~16組；
□ 氣壓保護(hù)：進(jìn)口壓力開關(guān)，正負(fù)壓可設(shè)置，有效保護(hù)真空環(huán)境；
□ 抽氣速率：常壓至5*10-2Pa≤10min；
□ 掩膜庫：4位/6位/8位可選；
□ 真空保持：停止真空系統(tǒng)后12小時(shí)≤2 Pa；
□ 門板控制：手動、手動自動集成可選。
規(guī)格型號
參數(shù)/規(guī)格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
鍍膜方式 | 多源熱蒸發(fā)鍍膜 | 多源熱蒸發(fā)鍍膜 | 多源熱蒸發(fā)鍍膜 |
腔體結(jié)構(gòu) | 方形，前后開門，可配合手套箱安裝 | 方形，前后開門，可配合手套箱安裝 | 方形，前后開門，可配合手套箱安裝 |
材質(zhì)用料 | 優(yōu)質(zhì)真空不銹鋼 | 優(yōu)質(zhì)真空不銹鋼 | 優(yōu)質(zhì)真空不銹鋼 |
真空腔室尺寸 | L260*W262*H351 | L360*W363*H486 | L460*W464*H635 |
加熱溫度 | 600℃ | 600℃ | 600℃ |
蒸發(fā)源數(shù)量 | 2~8可選；扇形分布，相互間擋板隔離，避免交叉污染 | 6~12可選；扇形分布，相互間擋板隔離，避免交叉污染 | 10~16可選；扇形分布，相互間擋板隔離，避免交叉污染 |
MagicVol/切換 | PC控制 | PC控制 | PC控制 |
蒸發(fā)源/加熱溫度 | 室溫~600°C | 室溫~600°C | 室溫~600°C |
蒸發(fā)源參數(shù) | 金屬舟：200A | 金屬舟：200A | 金屬舟：200A |
基片臺（樣品架） | φ161mm | φ224mm | φ287mm |
樣品托及掩模版 | 樣品托面積：70×70mm，可放置65×65mm樣品 | 樣品托面積：100×100mm，可放置90×90mm樣品 | 樣品托面積：140×140mm，可放置134×134mm樣品或放16片25×25mm樣品 |
基片臺擋板 | 程控，氣缸+磁流體驅(qū)動，傳動穩(wěn)定，密封可靠 | 程控，氣缸+磁流體驅(qū)動，傳動穩(wěn)定，密封可靠 | 程控，氣缸+磁流體驅(qū)動，傳動穩(wěn)定，密封可靠 |
基片臺升降 | 固定間距或0~30mm可調(diào) | 固定間距或0~50mm可調(diào) | 固定間距或0~70mm可調(diào) |
參數(shù)/規(guī)格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
基片尺寸 | ≤30×30mm | ≤30×30mm | ≤30×30mm |
膜厚不均勻性 | ≤5% | ≤5% | ≤5% |
備用接口 | 4 | 6 | 6 |
門板控制 | 手動/自動/手動自動一體 | 手動/自動/手動自動一體 | 手動/自動/手動自動一體 |
系統(tǒng)控制 | PC軟件 | PC軟件 | PC軟件 |
蒸鍍過程控制 | 各操作環(huán)節(jié)，掩膜板更換、樣品架旋轉(zhuǎn)及定位、電源功率調(diào)節(jié)等均可在軟件界面完成 | 各操作環(huán)節(jié)，掩膜板更換、樣品架旋轉(zhuǎn)及定位、電源功率調(diào)節(jié)等均可在軟件界面完成 | 各操作環(huán)節(jié)，掩膜板更換、樣品架旋轉(zhuǎn)及定位、電源功率調(diào)節(jié)等均可在軟件界面完成 |
總功率 | ≥5KW | ≥8KW | ≥10KW |
抽氣速率 | 5.0×10-2Pa≤5min | 5.0×10-2Pa≤8min | 5.0×10-2Pa≤10min |
工作真空 | 優(yōu)于5×10-4Pa，從大氣到工作真空時(shí)間≤30分鐘 | 優(yōu)于5×10-4Pa，從大氣到工作真空時(shí)間≤30分鐘 | 優(yōu)于5×10-4Pa，從大氣到工作真空時(shí)間≤30分鐘 |
極限真空 | 優(yōu)于4.0×10-5Pa | 優(yōu)于4.0×10-5Pa | 優(yōu)于4.0×10-5Pa |
漏率 | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S |
分子泵類別 | 油/脂潤滑、磁懸浮可選 | 油/脂潤滑、磁懸浮可選 | 油/脂潤滑、磁懸浮可選 |
冷卻系統(tǒng) | 搭配循環(huán)水冷卻 | 搭配循環(huán)水冷卻 | 搭配循環(huán)水冷卻 |
掩膜庫一 | 4位 | 4位 | 4位 |
掩膜庫二 | 6位 | 6位 | 6位 |
掩膜庫三 | 8位 | 8位 | 8位 |
參數(shù)/規(guī)格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
循環(huán)水參數(shù) | ≤4LMP，溫度范圍-5°C~45°C，溫控精度0.1% | ≤4LMP，溫度范圍-5°C~45°C，溫控精度0.1% | ≤4LMP，溫度范圍-5°C~45°C，溫控精度0.1% |
真空系統(tǒng) | 分子泵+機(jī)械泵PC軟件控制 | 分子泵+機(jī)械泵PC軟件控制 | 分子泵+機(jī)械泵PC軟件控制 |
蒸發(fā)電源 | 控制方式：恒流模式； 數(shù)量：按客戶要求； 功率：600W，1200W，1500W等可選； 精度：程控精度為量程的0.01%。 | 控制方式：恒流模式； 數(shù)量：按客戶要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度為量程的0.01% | 控制方式：恒流模式； 數(shù)量：按客戶要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度為量程的0.01%。 |
手套箱 | 單/雙工位可選，可按客戶要求預(yù)留多個(gè)數(shù)據(jù)交互接口（USB、BNC等）使用戶可無憂使用需要與外設(shè)備連接的儀器 | 單/雙工位可選，可按客戶要求預(yù)留多個(gè)數(shù)據(jù)交互接口（USB、BNC等）使用戶可無憂使用需要與外設(shè)備連接的儀器 | 單/雙工位可選，可按客戶要求預(yù)留多個(gè)數(shù)據(jù)交互接口（USB、BNC等）使用戶可無憂使用需要與外設(shè)備連接的儀器 |
真空保持 | 12小時(shí)≤2Pa | 12小時(shí)≤2Pa | 12小時(shí)≤2Pa |
參數(shù)/規(guī)格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
手套箱參數(shù) | 手套箱含水氧探頭、氣體循環(huán)和再生系統(tǒng)。水氧含量控制在小于1 ppm。 | 手套箱含水氧探頭、氣體循環(huán)和再生系統(tǒng)。水氧含量控制在小于1 ppm。 | 手套箱含水氧探頭、氣體循環(huán)和再生系統(tǒng)。水氧含量控制在小于1 ppm。 |
系統(tǒng)保護(hù) | 氣壓、高壓保護(hù)控制系統(tǒng)全程即時(shí)報(bào)警 | 氣壓、高壓保護(hù)控制系統(tǒng)全程即時(shí)報(bào)警 | 氣壓、高壓保護(hù)控制系統(tǒng)全程即時(shí)報(bào)警 |
氣路控制 | 超高真空氣動電磁閥 | 超高真空氣動電磁閥 | 超高真空氣動電磁閥 |
電氣柜 | 與系統(tǒng)一體式集成化，節(jié)省空間 | 與系統(tǒng)一體式集成化，節(jié)省空間 | 與系統(tǒng)一體式集成化，節(jié)省空間 |
腔室測溫 | 可選高精度PT100測溫，軟件實(shí)時(shí)顯示溫度值 | 可選高精度PT100測溫，軟件實(shí)時(shí)顯示溫度值 | 可選高精度PT100測溫，軟件實(shí)時(shí)顯示溫度值 |
膜厚儀 | 腔室內(nèi)可安裝1~8個(gè)探頭標(biāo)配優(yōu)質(zhì)石英晶振膜厚控制儀；可選國產(chǎn)或進(jìn)口監(jiān)測控制儀 | 腔室內(nèi)可安裝1~8個(gè)探頭標(biāo)配優(yōu)質(zhì)石英晶振膜厚控制儀；可選國產(chǎn)或進(jìn)口監(jiān)測控制儀 | 腔室內(nèi)可安裝1~8個(gè)探頭標(biāo)配優(yōu)質(zhì)石英晶振膜厚控制儀；可選國產(chǎn)或進(jìn)口監(jiān)測控制儀 |
真空計(jì)顯示范圍 | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa |
機(jī)架 | 進(jìn)口鋁型材組裝，整體簡潔大方 | 進(jìn)口鋁型材組裝，整體簡潔大方 | 進(jìn)口鋁型材組裝，整體簡潔大方 |
顯示屏 | 搭配工業(yè)級屏幕支架，可任意角度旋轉(zhuǎn)及隨意升降，滿足不同用戶的舒適要求 | 搭配工業(yè)級屏幕支架，可任意角度旋轉(zhuǎn)及隨意升降，滿足不同用戶的舒適要求 | 搭配工業(yè)級屏幕支架，可任意角度旋轉(zhuǎn)及隨意升降，滿足不同用戶的舒適要求 |
AluVac/SteeVac拓展介紹
1、真空鍍膜儀在器件研究的應(yīng)用
（1）、半導(dǎo)體與電子器件領(lǐng)域
芯片電極與互聯(lián)層制備：
采用磁控濺射技術(shù)沉積 Ti、TiN、Cu、Al 等金屬薄膜，作為芯片的柵電極、源漏電極及金屬互聯(lián)線。
半導(dǎo)體封裝與鈍化層制備：
利用電子束蒸發(fā)或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）沉積 SiO?、Si?N?薄膜，作為芯片表面鈍化層，防止水汽、雜質(zhì)侵蝕。
MEMS 器件結(jié)構(gòu)制備：
通過濺射或蒸發(fā)沉積金屬、絕緣薄膜，構(gòu)建 MEMS 傳感器的敏感結(jié)構(gòu)與電極。
（2）、光電材料與器件領(lǐng)域
太陽能電池薄膜制備：
鈣鈦礦太陽能電池：采用真空熱蒸發(fā)沉積 Au、Ag 等金屬電極，或?yàn)R射 ITO 透明導(dǎo)電薄膜，提升光電轉(zhuǎn)換效率與器件穩(wěn)定性。
薄膜太陽能電池：通過磁控濺射沉積 CdTe、CIGS 等吸收層薄膜，搭配 ZnO 緩沖層，實(shí)現(xiàn)高效光吸收與載流子分離。
發(fā)光器件（LED/OLED）制造：
LED：采用電子束蒸發(fā)沉積 GaN 基外延層或 ITO 透明電極，濺射 Au 鍵合層，提升光提取效率與電流分布均勻性。
OLED：通過真空熱蒸發(fā)沉積有機(jī)發(fā)光層）、空穴傳輸層與電子傳輸層，精準(zhǔn)控制薄膜厚度以優(yōu)化發(fā)光性能。
光探測器與光學(xué)元件鍍膜：
沉積紅外吸收膜、增透膜，提升光探測器的響應(yīng)率與光學(xué)元件的透光效率。
（3）、新能源材料領(lǐng)域
固態(tài)電池電極與電解質(zhì)制備：
采用磁控濺射沉積 LiCoO?、LiFePO?等正極薄膜，或?yàn)R射 Li?PO?、LiPON 等固態(tài)電解質(zhì)薄膜，解決液態(tài)電解質(zhì)漏液、安全隱患問題。
超級電容器電極修飾：
濺射或蒸發(fā)沉積活性炭、石墨烯復(fù)合薄膜，或金屬氧化物薄膜，提升電極比表面積與導(dǎo)電性，增強(qiáng)儲能容量。
2、產(chǎn)品主要測試功能特點(diǎn)
（1）、真空環(huán)境精準(zhǔn)控制
配備多級真空泵組，極限真空度可達(dá) 10??Pa，滿足高純度薄膜制備需求；部分型號支持真空梯度控制，適配不同鍍膜階段的壓強(qiáng)要求。
采用 PID 閉環(huán)反饋控制真空度與氣體流量，搭配高精度真空計(jì)與 MFC，確保鍍膜過程中真空環(huán)境與氣體氛圍的穩(wěn)定性，減少薄膜缺陷。
（2）、多鍍膜技術(shù)集成
兼容多種鍍膜技術(shù)，如磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等，可根據(jù)薄膜材料靈活選擇。
支持多靶材配置，可實(shí)現(xiàn)多層薄膜交替沉積，適配復(fù)雜器件結(jié)構(gòu)制備。
（3）、高精度鍍膜調(diào)控
沉積速率可精準(zhǔn)調(diào)節(jié)，結(jié)合 QCM 實(shí)時(shí)監(jiān)控與反饋調(diào)節(jié)，薄膜厚度控制精度可達(dá) ±0.5nm，滿足微納器件對薄膜尺寸的嚴(yán)苛要求。
樣品臺支持旋轉(zhuǎn)與公轉(zhuǎn)，提升大面積樣品的鍍膜均勻性；部分型號配備偏壓電源，通過施加負(fù)偏壓改善薄膜致密性與附著力。
（4）、高兼容性與適配性
樣品臺兼容晶圓、芯片、薄膜、柔性基底、三維器件等多種形態(tài)樣品，支持室溫至 500℃的溫度調(diào)控，適配半導(dǎo)體、光電、新能源等多領(lǐng)域需求。
可更換不同材質(zhì)靶材與反應(yīng)氣體，實(shí)現(xiàn)金屬膜、氧化物膜、氮化物膜、硫化物膜等多種功能薄膜的制備。
（5）、自動化與智能化操作
配備專用控制軟件，支持預(yù)設(shè)鍍膜工藝參數(shù)，自動完成抽真空、鍍膜、泄壓全流程，減少人為操作誤差。
支持?jǐn)?shù)據(jù)實(shí)時(shí)采集與存儲，兼容 Excel、Origin 等軟件導(dǎo)出，方便工藝優(yōu)化與數(shù)據(jù)追溯。
（6）、安全穩(wěn)定運(yùn)行
內(nèi)置多重安全保護(hù)機(jī)制，包括真空低液位報(bào)警、超溫 / 超壓保護(hù)、氣體泄漏檢測、應(yīng)急泄壓裝置，保障設(shè)備長期穩(wěn)定運(yùn)行與操作人員安全。
采用模塊化設(shè)計(jì)，真空泵、靶材、控制系統(tǒng)等部件可獨(dú)立拆卸與維護(hù)，降低設(shè)備故障率與維護(hù)成本。
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