邁浦特科技公司于2010年成立于香港，蘇州邁浦特機械有限公司是邁浦特公司在大陸設(shè)立的生產(chǎn)基地，并于2017年在南通成立南通邁浦特公司。邁浦特—直致力于TCU溫控系統(tǒng)，導(dǎo)熱油系統(tǒng)，高低溫機，模溫機，油溫機，水溫機，油加熱器，電加熱油爐，冷水機，冷熱一體機的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)和技術(shù)咨詢，是為您提供工業(yè)溫度控制技術(shù)及解決方案的供應(yīng)商。

邁浦特借助于多年的成熟經(jīng)驗，以專業(yè)技術(shù)為橡塑材料，壓鑄，食品，化工，醫(yī)療，印刷，包裝，木材，壓機，復(fù)合材料，碳纖維復(fù)材成型，鋰電池隔膜，橡膠輪胎，壓延，鞋材，烘干以及科研行業(yè)提供所需的各種溫控設(shè)備和技術(shù)服務(wù)。主要有產(chǎn)品包括模溫機，油溫機，水溫機，油加熱器，冷水機，電加熱油爐，防爆模溫機，PLC模溫機，水循環(huán)溫度控制機，油循環(huán)溫度控制....

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產(chǎn)品簡介在線詢價

光刻機冷卻選高低溫一體機，為光刻機冷卻設(shè)計，核心解決溫度波動致光刻精度偏差問題。以硅油為介質(zhì)，控溫精度 PID±0.1℃，支持斜率 / 快速控溫。采用邁浦特獨PLC 系統(tǒng)，100 組可編程程序，實時顯溫 + 曲線，USB 導(dǎo)出數(shù)據(jù)。具備 10 重安全保護，0-40℃環(huán)境 24 小時穩(wěn)定運行，契合半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，為光刻機精準(zhǔn)冷卻提供可靠支撐。

光刻機冷卻選高低溫一體機產(chǎn)品詳情

支持非標(biāo)定制，免費提供技術(shù)規(guī)格書、方案。

光刻機冷卻選高低溫一體機（MPTD 系列）產(chǎn)品簡介

一、產(chǎn)品定位與核心用途

專為光刻機（半導(dǎo)體光刻工藝核心設(shè)備）關(guān)鍵部件冷卻與恒溫控制研發(fā)設(shè)計，屬于邁浦特 MPTD 系列 - 45℃~300℃高低溫一體機范疇，核心用于解決光刻機運行中溫度波動導(dǎo)致的光刻精度偏差（如納米級線寬偏移）、光源系統(tǒng)過熱衰減、精密運動部件熱變形及批量生產(chǎn)一致性差等問題。通過硅油循環(huán)構(gòu)建 - 45℃~300℃寬域可控溫度環(huán)境，重點適配光刻機光源模塊（如 DUV、EUV 光源）、精密導(dǎo)軌、晶圓承載臺及光學(xué)鏡頭等核心部件的冷卻需求，為光刻工藝實現(xiàn)納米級精度、提升芯片良率提供核心溫控支撐。

適配半導(dǎo)體晶圓廠、光刻機研發(fā)中心、半導(dǎo)體設(shè)備維修車間等場景，可在 0-40℃環(huán)境溫度、50%-80% 相對濕度、±4℃/h 溫差工況下每周 7 天、每天 24 小時連續(xù)運行，契合半導(dǎo)體行業(yè)對 “超高精度溫控、低振動低干擾、高潔凈性” 的嚴(yán)苛要求，同時滿足 SEMI F47（半導(dǎo)體設(shè)備電壓波動耐受標(biāo)準(zhǔn)）、GB/T 30269（半導(dǎo)體設(shè)備環(huán)境要求）等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，保障光刻機在大規(guī)模集成電路制造中的穩(wěn)定運行。

二、核心性能特點

1. 超高精度控溫，保障光刻納米級精度

控溫范圍覆蓋 - 45℃~300℃，溫控精度達 PID±0.1℃，采用邁浦特 PLC 控溫系統(tǒng)（內(nèi)置 9 組獨立 PID 溫區(qū)段控制邏輯），搭配 PT100 鉑電阻測溫體（中國臺灣銘揚，測溫響應(yīng)≤0.1 秒，誤差≤±0.05℃），可精準(zhǔn)匹配光刻機各核心部件冷卻需求，控制溫度波動在納米級精度允許范圍內(nèi)：

光源模塊冷卻：25℃~40℃±0.1℃（穩(wěn)定 DUV/EUV 光源工作溫度，避免高溫致光源功率衰減、光譜偏移，確保光刻能量均勻性）；
精密導(dǎo)軌恒溫：20℃~25℃±0.1℃（控制導(dǎo)軌熱變形量≤0.1μm，保障晶圓臺與鏡頭的相對位置精度，避免線寬偏差）；
晶圓承載臺溫控：18℃~22℃±0.1℃（維持晶圓溫度穩(wěn)定，防止晶圓熱脹冷縮致光刻圖案錯位，適配 300mm/450mm 大尺寸晶圓）；
光學(xué)鏡頭冷卻：22℃~24℃±0.1℃（避免鏡頭溫度變化致折射率偏移，確保光路精準(zhǔn)聚焦，減少像差）；
低溫環(huán)境模擬：-40℃~0℃±0.1℃（光刻機低溫性能測試，驗證環(huán)境下設(shè)備穩(wěn)定性，如高緯度地區(qū)晶圓廠適配）。

系統(tǒng)支持進出口溫度相互切換、物料溫度與本機溫度雙向切換，加熱冷卻雙 PID 協(xié)同控制，能快速響應(yīng)光刻機 “光源啟停、晶圓批次更換” 帶來的瞬時熱負(fù)荷沖擊（如光源啟動時熱功率驟升），確保冷卻區(qū)域（光源腔、導(dǎo)軌、晶圓臺）溫度波動≤±0.5℃，避免因溫度偏差導(dǎo)致光刻良率下降（如線寬偏差超 3nm）。

支持 100 組可編工藝程序，每組含 100 條步驟，可預(yù)設(shè) “開機預(yù)熱→光源冷卻→光刻作業(yè)→關(guān)機保溫” 全流程溫控曲線（如 “20℃恒溫 1h（設(shè)備預(yù)熱）→30℃升溫（0.2℃/min，光源冷卻準(zhǔn)備）→30℃恒溫 8h（光刻作業(yè)）→25℃降溫（0.1℃/min，關(guān)機保溫）”），一鍵調(diào)用自動執(zhí)行，減少人工操作誤差。配備 7 寸邁浦特定制觸摸顯示屏，實時顯示設(shè)定溫度、實際溫度及動態(tài)溫度曲線；支持 USB 數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能，可按 1 分鐘～24 小時周期導(dǎo)出 24 個月內(nèi)的溫度數(shù)據(jù)與告警記錄，滿足半導(dǎo)體行業(yè)數(shù)據(jù)追溯與合規(guī)存檔需求；通訊方式標(biāo)配 Modbus RS485，可與光刻機控制系統(tǒng)、晶圓廠 MES 系統(tǒng)聯(lián)動，實現(xiàn)溫控參數(shù)與光刻數(shù)據(jù)（線寬精度、良率）同步采集。

2. 低干擾潔凈循環(huán)，適配半導(dǎo)體潔凈車間

高效潔凈循環(huán)設(shè)計：采用直接加熱（直接冷卻）方式，加熱功率 5.5~25kW 可按需適配（小型研發(fā)用光刻機選 5.5~10kW，量產(chǎn)型光刻機選 15~25kW）。加熱管選用 SUS316L 不銹鋼材質(zhì)，法蘭型連接搭配陶瓷絕熱設(shè)計，耐硅油腐蝕且熱效率達 95% 以上，減少熱量損耗；全密閉管道式設(shè)計結(jié)合高效板式熱交換器，降低硅油需求量的同時提升熱量利用率，快速響應(yīng)溫度調(diào)節(jié)需求，縮短光刻機開機預(yù)熱時間（如從常溫升至 30℃僅需 15 分鐘）。

配備邁浦特定制磁力油泵，耐溫 - 110℃~350℃，軸承采用日本 NSK 軸封，運行零泄漏，防止硅油滲漏污染光刻機光學(xué)部件（如鏡頭、晶圓表面）；油泵揚程 28~100M、流量 6.5~250m3/h，可根據(jù)光刻機冷卻流道尺寸定制：高揚程適配多層冷卻回路，大流量確保硅油在光源腔夾套、導(dǎo)軌冷卻流道、晶圓臺夾層內(nèi)均勻流動，使同一部件不同區(qū)域溫度偏差≤±0.3℃，避免局部溫差致部件變形。主管路系統(tǒng)為不銹鋼材質(zhì)，經(jīng)無縫氬弧焊接工藝處理，內(nèi)壁光滑易清潔，搭配高溫 Y 型過濾器（邁浦特定制，過濾精度≥5μm），過濾硅油中金屬碎屑、粉塵等雜質(zhì)，防止堵塞光刻機微小冷卻流道；硅油選用低揮發(fā)、高潔凈型號（揮發(fā)量≤0.1%/100h@150℃），無顆粒釋放、無異味，符合半導(dǎo)體潔凈車間 Class 1 標(biāo)準(zhǔn)，無需頻繁更換介質(zhì)，降低光刻機停機維護時間。

低干擾設(shè)計：設(shè)備運行噪音≤65dB、振動≤0.1mm/s，遠低于半導(dǎo)體車間對設(shè)備振動的要求（≤0.5mm/s），不會干擾光刻機精密運動部件（如晶圓臺納米級位移）；膨脹箱內(nèi)硅油不參與循環(huán)，溫度維持在常溫～60℃，減少硅油氧化與揮發(fā)，避免揮發(fā)物附著在光刻機鏡頭或晶圓上影響光刻質(zhì)量（如形成微小雜質(zhì)點致芯片缺陷）；整機采用無靜電噴塑處理，適配半導(dǎo)體車間防靜電要求，防止靜電吸附粉塵污染設(shè)備。

3. 多重安全保護，規(guī)避高價值設(shè)備風(fēng)險

具備 10 重全面安全保護裝置，針對光刻機高價值（單臺數(shù)千萬至數(shù)億元）、高敏感性特性定制安全邏輯，多維度保障設(shè)備運行、操作人員及貴重光刻機安全：

溫度與介質(zhì)保護：循環(huán)硅油超光刻機安全溫度上限（如 60℃，防止光源模塊燒毀、導(dǎo)軌變形）或低于下限（如 - 45℃，避免管路凍裂、光學(xué)部件脆化）時，自動切斷電源并聲光報警；液位開關(guān)實時監(jiān)測油位，缺油時立即停機，避免油泵空轉(zhuǎn)損壞，同時防止溫控中斷導(dǎo)致光刻機緊急停機（如光源過熱保護觸發(fā)）。
動力與壓力保護：瑞士 CARLO DPA51CM44 逆相保護器檢測電源相位，防止泵浦反轉(zhuǎn)；德國西門子 3RU6116 熱繼電器保護泵浦與壓縮機超載，報警提示；系統(tǒng)壓力異常（高壓≥2.8MPa、低壓≤0.2MPa）時，自動停止加熱并啟動 BY-PASS 泄壓回路，避免管路爆裂損壞光刻機核心部件（如光源腔、光學(xué)鏡頭）；冷卻水流量異常時觸發(fā)報警，防止換熱不足導(dǎo)致溫度失控。
應(yīng)急與操作保護：配備緊急停止按鈕，設(shè)備異常（如溫度驟升、泄漏）時可手動快速切斷運行，適配無人值守的晶圓廠夜班生產(chǎn)；短路（超溫）保護采用韓國 LS 空氣開關(guān)，快速切斷故障電路，避免引發(fā)電氣安全事故或光刻機數(shù)據(jù)丟失；支持手動 / 自動排氣功能，快速排出系統(tǒng)內(nèi)空氣，確保溫控精度，預(yù)防氣阻致局部溫度偏差影響光刻精度。

4. 定制化適配，貼合光刻機場景

接口與布局定制：熱媒體進 / 出口管徑（內(nèi)螺紋 Rc1/2" 及其他規(guī)格可選）可根據(jù)光刻機冷卻接口（如光源腔、導(dǎo)軌冷卻接口）規(guī)格定制，支持 DN10~DN50 多種尺寸，無需改造光刻機現(xiàn)有冷卻系統(tǒng)，降低安裝成本；可根據(jù)半導(dǎo)體潔凈車間空間（如狹小潔凈區(qū)、光刻機周邊密集布局）定制機架尺寸，底部加裝萬向輪（帶剎車），便于設(shè)備移動與定位，減少空間占用；針對大型量產(chǎn)型光刻機，可定制多出口管路，實現(xiàn)一臺機組為光源、導(dǎo)軌、晶圓臺多部件同時冷卻，降低設(shè)備投入成本。
功能擴展定制：針對 EUV 光刻機等超高精度設(shè)備，可選購 ±0.05℃超高精度控溫模塊，進一步提升溫控穩(wěn)定性；針對遠程運維需求，可選配以太網(wǎng)通訊功能（PROFINET/PROFIBUS），實現(xiàn)與晶圓廠遠程監(jiān)控系統(tǒng)聯(lián)動，遠程查看冷卻數(shù)據(jù)、調(diào)整參數(shù)，適配多車間協(xié)同管理；針對潔凈車間需求，可定制機架表面抗菌防靜電噴塑、設(shè)計，提升潔凈度適配性；針對低功耗需求，可擴展智能變頻功能，根據(jù)光刻機負(fù)荷自動調(diào)節(jié)冷卻功率，契合半導(dǎo)體行業(yè)節(jié)能要求。

三、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)（典型機型）

參數(shù)類別	具體參數(shù)
電源規(guī)格	3N-380V-50Hz（允許電壓波動 ±10%，相間電壓差 ±2%）
總電功率	9.5~37kW（380V 3N）
熱媒體	低揮發(fā)潔凈硅油（耐 - 45℃~300℃，揮發(fā)量≤0.1%/100h@150℃，符合 Class 1 潔凈標(biāo)準(zhǔn)）
控溫范圍	-45℃~300℃
控溫精度	PID±0.1℃（可選 ±0.05℃超高精度）
控溫方式	邁浦特 PLC 系統(tǒng)，9 組獨立 PID 分段控溫，加熱冷卻雙 PID 控制，溫度切換功能
加熱功率	5.5~25kW（可選購，適配不同光刻機規(guī)模）
制冷量	-40℃：0.9~4.7kW；-20℃：2.9~16kW；0℃/20℃/300℃：5.5~25kW（可選購）
循環(huán)泵	邁浦特定制磁力油泵，耐溫 - 110℃~350℃，日本 NSK 軸封（揚程 28~100M，流量 6.5~250m3/h）
主管路材質(zhì)	不銹鋼（SUS316L），無縫氬弧焊接工藝，內(nèi)壁拋光處理
節(jié)流方式	電子膨脹閥或毛細(xì)管
壓縮機	美國谷輪 / 卡萊爾全封閉渦旋式壓縮機（運行穩(wěn)定，噪音≤60dB）
安全保護	溫度異常、電源逆相、泵浦超載、缺油、壓力異常、管路阻塞等 10 重保護
數(shù)據(jù)功能	7 寸觸摸顯示屏（實時溫度 + 曲線顯示），USB 導(dǎo)出 24 個月數(shù)據(jù)，Modbus RS485 通訊
工作環(huán)境	溫度 0-40℃，相對濕度 50%-80%，潔凈度 Class 1~Class 100（符合半導(dǎo)體車間要求）
設(shè)備特性	低振動（≤0.1mm/s）、低噪音（≤65dB）、全密閉循環(huán)（防潔凈區(qū)污染）

四、安裝與環(huán)境適配要求

1. 安裝規(guī)范

電源配置：需使用三相 380V 50Hz + 地線，建議采用 3xmm2+1xmm2 銅芯電纜線（由需方自備），電纜規(guī)格根據(jù)設(shè)備總功率匹配（如 9.5kW 機型選 3x4mm2+1x2.5mm2，37kW 機型選 3x10mm2+1x6mm2），確保電源輸出穩(wěn)定，避免電壓波動影響溫控精度；做好接地處理（接地電阻≤1Ω），防止電磁干擾影響光刻機精密電路（如光源控制系統(tǒng)、位移傳感器）。
管路連接：熱媒體出入口建議采用不銹鋼硬管連接，需跨越潔凈區(qū)時可配備耐高溫 350℃不銹鋼軟管（長度≤3 米，由需方自備）并加裝保溫管（厚度≥20mm，潔凈級材質(zhì)），減少熱損耗；水冷機型需接入高純水（電導(dǎo)率≤0.1μS/cm），溫度≤20℃，壓力控制在 0.15-0.3MPa，避免水垢雜質(zhì)污染循環(huán)系統(tǒng)或光刻機冷卻流道。
調(diào)試條件：在硅油、電供應(yīng)正常且與光刻機連接完成后調(diào)試，先空載試運行 24 小時，驗證控溫精度、循環(huán)穩(wěn)定性及安全保護功能正常；再帶載調(diào)試（模擬光刻機實際工作負(fù)荷），確保冷卻區(qū)域溫場均勻性達標(biāo)（各點溫差≤±0.3℃）、光刻機光刻精度（線寬偏差、套刻精度）符合要求后，方可投入正式使用。

2. 環(huán)境適配

設(shè)備可直接安裝于半導(dǎo)體潔凈車間（光刻區(qū)），機架采用 2mm 厚碳鋼噴塑處理（防靜電、抗菌），易清潔且耐潔凈車間常規(guī)消毒（如異丙醇擦拭、干霧滅菌）；運行適配 0-40℃的常規(guī)潔凈車間溫度范圍，無需額外恒溫改造，降低車間建設(shè)成本；設(shè)備整體設(shè)計緊湊，可靈活擺放于光刻機旁或?qū)Ｓ迷O(shè)備區(qū)，不占用晶圓搬運與光刻操作的核心空間，契合半導(dǎo)體車間 “高密度、高潔凈” 的布局需求。

光刻機冷卻選高低溫一體機（MPTD 系列）產(chǎn)品技術(shù)規(guī)格書示例

-45至300℃高低溫一體機MPTD技術(shù)規(guī)格書_01.png

-45至300℃高低溫一體機MPTD技術(shù)規(guī)格書_02.png

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設(shè)備可直接安裝于表面處理車間（如噴涂區(qū)、電鍍區(qū)、磷化處理區(qū)），機架防腐蝕、易清潔，無需特殊防護設(shè)施；運行噪音≤75dB、振動≤0.2mm/s，不干擾車間操作環(huán)境；適配 0-40℃常規(guī)車間溫度范圍，能長期穩(wěn)定應(yīng)對高濕度、輕微腐蝕性氣體環(huán)境，無需額外恒溫改造。

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