列真公司在半導(dǎo)體光罩檢測設(shè)備上積累了獨(dú)自技術(shù), 主產(chǎn)品 LODAS ™系列具有日本權(quán) (號:2017-096912、2019-179097、2019-082496)的激光檢測技術(shù)。
可同時探測收集激光的反射光,透射光以及共聚焦,可一次性檢查第三代半導(dǎo)體 SIC 等材料表面,背面和內(nèi)部的缺陷,可探測小缺陷為100 納米,
主要用于SIC、半導(dǎo)體光罩、 LCD 大型光罩的石英玻璃表面、內(nèi)部、背面的缺陷檢查 。將此項技術(shù)運(yùn)用于第三代半導(dǎo)體材料的缺陷檢查,將提升量產(chǎn)成品率將具有重要意義。

SiC、GaN
半導(dǎo)體光罩(石英玻璃與涂層)、
石英Wafer Si Wafer
HDD Disk LT Wafer
藍(lán)寶石襯底、
EUV光罩、
光罩防塵膜
可全面檢測 表面、內(nèi)部、背面的缺陷
外延缺陷
胡蘿卜型缺陷
彗星缺陷
三角缺陷
邊緣缺陷
襯底缺陷
微管缺陷
層錯缺陷
六方空洞缺陷
缺陷檢測對象和種類

































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