1、鋁型材機(jī)架+防指紋拉絲不銹鋼面板，觸摸屏人機(jī)操作；

2、樣品臺(tái)尺寸：可放置4英寸樣品，兼容4inch及以下樣品尺寸；

3、樣品加熱溫度：300℃，控制精度±0.5℃；樣品臺(tái)表面設(shè)置有陽(yáng)極氧化鋁片托，    方便清洗和維護(hù)保養(yǎng)；

4、本底真空1：配置高性能雙極旋片真空泵，抽速不小于16 m³/h，滿足對(duì)本底真    空和原子層沉積工藝的要求；

5、真空計(jì)：美國(guó)MKS數(shù)字式壓力傳感器，檢測(cè)范圍10^-5至10⁵ Torr；

6、反應(yīng)腔室：沉積腔室下腔室為316不銹鋼電拋光處理，上腔蓋為6061鋁材陽(yáng)極    氧化。腔室內(nèi)有可拆卸陽(yáng)極氧化鋁內(nèi)襯，方便清洗；腔室及真空抽氣管路的    采用全氟橡膠O型圈密封，真空漏率小于5*10^-7Pa.L/s；

7、獨(dú)立前驅(qū)體源：配置2路加熱金屬前驅(qū)體源和1路水前驅(qū)體源，金屬前驅(qū)體源   和水前驅(qū)體源采用兩個(gè)獨(dú)立的進(jìn)氣口輸運(yùn)到真空反應(yīng)腔室，每個(gè)進(jìn)氣口配置獨(dú)   立的吹掃流量計(jì)和管道；在未進(jìn)入反應(yīng)腔室前不能混合，避免前驅(qū)體源在輸運(yùn)   管道到發(fā)生交叉污染；

8、每路加熱前驅(qū)體源系統(tǒng)的加熱溫度可達(dá)到200℃，溫度控制精度±0.5℃。    配Swagelok高溫ALD專用閥門(mén)，高溫手動(dòng)隔膜閥，50mL不銹鋼源瓶；

尾氣處理裝置：外熱式不銹鋼真空熱阱前驅(qū)體處理器，加熱溫度600℃， 

9、控制精度±1.0℃；

10、吹掃流量計(jì)：2路模擬量質(zhì)量流量計(jì)，控制精度為滿量程的1%；

11、電源：50-60Hz，功率5KW，380V交流電源；

12、控制方式：PLC+工控機(jī)+懸停觸摸屏操作；

13、沉積非均勻性：4英寸內(nèi)沉積300cycle氧化鋁非均勻性<±1%；

14、維修工具1套、說(shuō)明書(shū)及其它技術(shù)資料；

15、配套工藝：提供沉積氧化鋁、氧化鉿、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯等材料的標(biāo)準(zhǔn)沉積工藝。

16、提供設(shè)備改造和根據(jù)工藝需求升級(jí)。