當制樣進入拋光步驟時，選擇合適的拋光布就是非常關鍵的一步。賀利氏公司在多年金相制樣研發(fā)的基礎之上，開發(fā)出新一代Technocloth拋光布。賀利氏公司精心選材，經過專業(yè)處理，新一代Technocloth拋光布專業(yè)、耐用和較好的制樣效果。

 賀利氏拋光布既可以用于自動磨拋也可用于手動磨拋，擁有與目前市場上主流磨拋設備支持盤尺寸匹配的拋光布型號。為便于客戶使用，賀利氏Technocloth拋光布有三種固定模式：自粘型，靜電吸附型和磁性吸附型。

自粘型

自粘型拋光布具有三層結構：表面磨拋層、超薄硬背基層和膠粘層。賀利氏Technocloth的三層結構保證了拋光布工作時平整度。同時也使得拋光布本身在FAS®固定系統(tǒng)盤上快速、簡單的固定位置。

靜電吸附型

靜電吸附型拋光布同樣具有三層結構：表面磨拋層、超薄硬背基層和XLAM®層。使用時，靜電吸附型拋光布與XLAM®固定系統(tǒng)盤配合使用，快速、簡單、平整度更佳。

磁性吸附型

磁性吸附型拋光布也是兩層結構：表面磨拋層和柔軟的Magnetic層。磁性吸附型拋光布避免了拋光布出現(xiàn)性折痕和操作時出現(xiàn)傷口。與FMS®磁性固定系統(tǒng)盤配合使用，操作簡單、方便。

根據(jù)您的制樣需求，賀利氏向您推薦合適的拋光布。

選擇拋光布的相關參數(shù)標準：

切削能力

平整度

光潔度

拋光布

2FC1

無紡布，合成纖維。

用于精磨軟質材料，拋光硬質和超硬材料

與3-9um金剛石懸浮液配合使用

2FC2

無紡布，合成纖維。

出色的拋光光潔度，用于拋光有色金屬。

與0.05-0.25um氧化物拋光液體配合使用。

2TT1

機織布，塔夫綢，合成纖維。

由于出色的切削能力和拋光布自身的平整度，用于粗拋難加工材料，例如韌性材料。

與6-15um金剛石懸浮液配合使用

2TS3

機織布，超薄緞子，天然纖維。

出色的自身平整度，拋光光潔度，保護試樣夾雜物和邊緣

與2-9um的金剛石懸浮液配合使用

2TS4

機織布，緞子，天然纖維。

出色的自身平整度，拋光光潔度和邊緣保護。尤其適用于對具有多種硬度或涂層試樣的拋光。使用壽命長。

與1-6um金剛石懸浮液配合使用。

3SE1

機織布，絲綢，合成纖維。

出色的自身平整度和拋光光潔度。用于拋光軟質材料。

與1-3um金剛石懸浮液配合使用。

3TL1

機織布，高阻抗，羊毛纖維。

用于拋光未包埋試樣。使用壽命長。

與3-6um金剛石懸浮液配合使用。

3FV1

植絨布，中等硬度，短膠粘纖維。

出色的拋光光潔度。用于拋光硬質材料。

與1-3um金剛石懸浮液配合使用。

4FV1

植絨布，軟質，長膠粘纖維。

極其出色的拋光光潔度。用于拋光所有材料，包括非常軟的材料。

與0.25-3um金剛石懸浮液配合使用，也可與0.05-0.25um氧化物拋光液體配合使用。 

4FV2

植絨布，軟質，長膠粘纖維。

極其出色的的拋光光潔度。用于拋光中等硬度材料。

與1-6um金剛石懸浮液配合使用。

4FV3

植絨布，軟質，長短雙膠粘纖維。

極其出色的拋光光潔度。用于拋光軟質材料。

與1um金剛石懸浮液配合使用。

4MP1

泡沫結構布，多孔聚氨酯泡沫。

用于終拋光的敏感材料。

與0.05-0.25um氧化物拋光液體配合使用。