英國Raptor Photonics公司的Eagle XV真空腔內X射線相機是專門為真空特殊工作環(huán)境設計的，可以直接放置在真空腔室內使用。相機采用了Teledyne e2v公司的背照式CCD芯片，百分之100的填充因子，可直接探測從真空紫外（極紫外）到軟X-ray波段（12eV-20keV能量范圍）。

主要特性

·      相機放置在真空腔室內使用

·       來自Teledyne e2v的背照式CCD芯片

·       可直接探測能量范圍12eV-20keV

·       制冷溫度-80℃，暗電流<0.0005e - /p/s

·       提供完整真空饋通的解決方案

·       真空度兼容性10 -5 至10 -8 mbar

典型應用

?x射線成像  ?x射線顯微鏡 ?薄膜和納米纖維 ?x射線等離子體診斷 ?全息和光刻

>>X-ray衍射（XRD）

X-ray衍射是一種研究物質特性的技術，如大分子、晶體、粉末、 聚合物和纖維。 當X-ray穿過物質時，它們與原子中的電子相互作用，并分散開 來。如果原子是在平面上組織的（即物質是結晶的），并且原子之間 的距離與X-ray的波長大小相同，則會發(fā)生構造性和破壞性的干涉， 并形成衍射圖案。根據所研究物質的種類，可以使用單色X-ray、粉 紅束（窄帶）X-ray或白束（寬帶）X-ray。

>>EUV紫外光刻

半導體工業(yè)使用波長從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已達到光刻技術的界限。認識到這 一限制，該行業(yè)在過去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術，以生 產小于100nm的特性。半導體工業(yè)研究的下一代光刻技術包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術也有其挑戰(zhàn)，但它經常被使用，因為它保留了上述光刻技術 （波長13.5nm）的外觀和感覺，以及使用了相同的基本設計工具。 因此，直接探測X-ray相機為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。

>>XUV、軟X射線及EUV光譜

美國McPherson Instruments公司的251MX平場光譜儀，采用新的120g/mm光柵和EA4710XO-BN相機，可以輕松實現(xiàn)XUV、軟X射線及EUV光譜的測量。

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Eagle XV – In Vacuum X-Ray

In Vacuum High Energy CCDs with a range of custom options

Introducing a high energy direct X-Ray In Vacuum version one of the most sensitive CCD cameras in the World. The Eagle XV is available in a range of options including sensor resolution, sensor type, cooling and feedthrough options – including trigger, liquid, power and CameraLink. This freedom of choice offers cameras to meet your exact needs.

The EAGLE XV camera features:

·       Choice of sensors, BN-DD and BN – Select the best QE for your application

·       Active / Passive cooling down to -80°C – Minimizing noise with Raptor cooling technology

·       Compact platform for In-Vacuum operation – Ideal for OEM integration with vacuum pressure <= 10^-5 mbar

·       Full range of Accessories – Including vacuum feedthroughs, cables, tubing etc

Optional Accessory	Part Number	Notes
Power Feedthrough	RPL-PFC	19-way hermetic bulkhead feedthrough; 3m, 19-way, in vacuum cable
CameraLink Feedthrough	RPL-CLFC	MDR-MDR Feedthru Plate; Cameralink Cable 3m MDR to MDR
KF40 Liquid Feedthrough	RPL-DN40KF-WFC	KF40 flange with 2-off ?" pipes, terminated with swagelok fittings
2.75" CF Liquid Feedthrough	RPL-DN40CF-WFC	2.75" CF flange with 2-off ?" pipes, terminated with swagelok fittings
KF40 Trigger Feedthrough 2 SMAs	RPL-DN40KF-TFC	KF40 flange with 2-off female SMA to SMA feedthroughs;
2.75" CF Trigger Feedthrough	RPL-DN40CF-TFC	2.75" CF flange with 2-off female SMA to SMA feedthroughs;
Air Side Water Tubing	RPL-WTUBE-XV	Includes tubing and connectors. Stainless Steel Hose Connector, 1/4 in. Tube Adapter, 1/4 in; 5mm ID Flexible PVC Tubing (2m length);
EPIX EB1 frame grabber	RPL-EPIX-EB1
EPIX XCAP Std software	RPL-XCAP-STD
CameraLink Cable (2m)	RPL-CL-CBL-2M	Longer Camera Link cable available.
Mini PC with XCAP Std and frame grabber	RPL-PC-EL1
Thermoelectric Water Chiller Unit	RPL-CHILLER	Recommended coolant flow rate >0.5l/min & cooling capacity >100W @ 20°C.

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產品參數：

型號	EA4240XV-BN-CL -II
芯片類型	CCD
有效像素	2048 x 2048
像素尺寸	13.5μm × 13.5μm
光譜響應范圍	12eV to 20keV
圖像阱深	>80ke- (100Ke- typical)
非線性	小于百分之一
暗電流@ -80?C	- 0.016 e/p/s
讀出噪聲（RMS）	10e- @ 2MHz <3.5e- @ 75kHz
積分時間	Up to 60 mins
幀頻	2MHz / 75kHz
讀出模式	Full 2D Image, Flexible Programmable Binning, ROI Selection
觸發(fā)模式	Internal / External
數據輸出格式	16 bit base Camera Link
同步方式	Trigger IN and OUT - TTL compatible
供電方式	12V DC ±0.1
總功耗	<67W (TEC ON, Steady State)
工作溫度	-20°C to +55°C
存儲溫度	-40°C to +70°C
外形尺寸	155.08mm x 140.89mm x 110.00mm
重量	<1.5Kg

典型應用

?x射線成像  ?x射線顯微鏡 ?薄膜和納米纖維 ?x射線等離子體診斷 ?全息和光刻

>>X-ray衍射（XRD）

X-ray衍射是一種研究物質特性的技術，如大分子、晶體、粉末、 聚合物和纖維。 當X-ray穿過物質時，它們與原子中的電子相互作用，并分散開 來。如果原子是在平面上組織的（即物質是結晶的），并且原子之間 的距離與X-ray的波長大小相同，則會發(fā)生構造性和破壞性的干涉， 并形成衍射圖案。根據所研究物質的種類，可以使用單色X-ray、粉 紅束（窄帶）X-ray或白束（寬帶）X-ray。

>>EUV紫外光刻

半導體工業(yè)使用波長從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已達到光刻技術的界限。認識到這 一限制，該行業(yè)在過去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術，以生 產小于100nm的特性。半導體工業(yè)研究的下一代光刻技術包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術也有其挑戰(zhàn)，但它經常被使用，因為它保留了上述光刻技術 （波長13.5nm）的外觀和感覺，以及使用了相同的基本設計工具。 因此，直接探測X-ray相機為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。

>>XUV、軟X射線及EUV光譜

美國McPherson Instruments公司的251MX平場光譜儀，采用新的120g/mm光柵和EA4710XO-BN相機，可以輕松實現(xiàn)XUV、軟X射線及EUV光譜的測量。

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Typical Uses:

• X-ray imaging

• X-ray microscopy

• Thin films and nanofibers

• X-ray plasma diagnostics

• Holography andlithography