英國(guó)Raptor Photonics公司的Eagle XO法蘭安裝型高速X射線(xiàn)相機(jī)采用CF152(6”)法蘭設(shè)計(jì)，可以與真空室直接連接。相機(jī)采用Teledyne e2v公司的背照式CCD芯片，可實(shí)現(xiàn)對(duì)真空紫外VUV、軟X射線(xiàn)的直接探測(cè)，探測(cè)能量范圍覆蓋12eV到20keV。提供不同分辨率相機(jī)可選，方便用戶(hù)選擇在特殊環(huán)境下進(jìn)行科研和系統(tǒng)的集成

主要特性

• CF152(6”)法蘭設(shè)計(jì)，可直接與真空室連接

• 來(lái)自Teledyne e2v的背照式CCD芯片

• 可直接探測(cè)能量范圍12eV-20keV

• 制冷溫度-80℃，暗電流<0.0005e - /p/s

• 讀出噪聲<2.3e -

• Camera Link接口，易于系統(tǒng)集成和開(kāi)發(fā)

典型應(yīng)用

?x射線(xiàn)成像 ?x射線(xiàn)顯微鏡 ?薄膜和納米纖維 ?x射線(xiàn)等離子體診斷 ?全息和光刻

>>X-ray衍射（XRD）

X射線(xiàn)成像及熒光成像(XRF)、X射線(xiàn)衍射成像(XRD)、X射線(xiàn)顯微鏡、共振非彈性X射線(xiàn)散射(RIXS)、VUV/EUV/XUV光譜、薄膜及納米纖維、材料組成及結(jié)構(gòu)、X射線(xiàn)等離子體診斷、全息照相及光刻

>>EUV紫外光刻半導(dǎo)體工業(yè)使用波長(zhǎng)從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已達(dá)到光刻技術(shù)的界限。認(rèn)識(shí)到這 一限制，該行業(yè)在過(guò)去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術(shù)，以生 產(chǎn)小于100nm的特性。半導(dǎo)體工業(yè)研究的下一代光刻技術(shù)包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術(shù)也有其挑戰(zhàn)，但它經(jīng)常被使用，因?yàn)樗Ａ袅松鲜龉饪碳夹g(shù) （波長(zhǎng)13.5nm）的外觀和感覺(jué)，以及使用了相同的基本設(shè)計(jì)工具。 因此，直接探測(cè)X-ray相機(jī)為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。

>>XUV、軟X射線(xiàn)及EUV光譜
美國(guó)McPherson Instruments公司的251MX平場(chǎng)光譜儀，采用新的120g/mm光柵和EA4710XO-BN相機(jī)，可以輕松實(shí)現(xiàn)XUV、軟X射線(xiàn)及EUV光譜的測(cè)量。

Eagle XO – Open Front X-Ray

Open Front High Energy CCDs with a range of custom options

Introducing a high energy direct X-Ray Open Front version one of the most sensitive CCD cameras in the World. The Eagle XO is available in a range of options including sensor resolution, sensor type, cooling and flange options. This freedom of choice offers cameras to meet your exact needs.

The EAGLE XO camera features:

·       Open front end – CF152 (6”) flange for direct interfacing to vacuum chambers

·       Deep cooled using Thermoelectric cooler (TEC) – Minimize dark current and enable long exposure

·       Choice of resolutions and pixel sizes – Optimizes sensitivity and large field of view imaging

·       Choice of sensor types – Enables ultra sharp image resolution and high dynamic range

產(chǎn)品參數(shù)：

典型應(yīng)用

?x射線(xiàn)成像 ?x射線(xiàn)顯微鏡 ?薄膜和納米纖維 ?x射線(xiàn)等離子體診斷 ?全息和光刻

>>X-ray衍射（XRD）

X-ray衍射是一種研究物質(zhì)特性的技術(shù)，如大分子、晶體、粉末、 聚合物和纖維。 當(dāng)X-ray穿過(guò)物質(zhì)時(shí)，它們與原子中的電子相互作用，并分散開(kāi) 來(lái)。如果原子是在平面上組織的（即物質(zhì)是結(jié)晶的），并且原子之間 的距離與X-ray的波長(zhǎng)大小相同，則會(huì)發(fā)生構(gòu)造性和破壞性的干涉， 并形成衍射圖案。根據(jù)所研究物質(zhì)的種類(lèi)，可以使用單色X-ray、粉 紅束（窄帶）X-ray或白束（寬帶）X-ray。

>>EUV紫外光刻

半導(dǎo)體工業(yè)使用波長(zhǎng)從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已達(dá)到光刻技術(shù)的界限。認(rèn)識(shí)到這 一限制，該行業(yè)在過(guò)去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術(shù)，以生 產(chǎn)小于100nm的特性。半導(dǎo)體工業(yè)研究的下一代光刻技術(shù)包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術(shù)也有其挑戰(zhàn)，但它經(jīng)常被使用，因?yàn)樗Ａ袅松鲜龉饪碳夹g(shù) （波長(zhǎng)13.5nm）的外觀和感覺(jué)，以及使用了相同的基本設(shè)計(jì)工具。 因此，直接探測(cè)X-ray相機(jī)為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。

>>XUV、軟X射線(xiàn)及EUV光譜

美國(guó)McPherson Instruments公司的251MX平場(chǎng)光譜儀，采用新的120g/mm光柵和EA4710XO-BN相機(jī)，可以輕松實(shí)現(xiàn)XUV、軟X射線(xiàn)及EUV光譜的測(cè)量。

Typical Uses:

·       X-ray imaging

·       X-ray microscopy

·       Thin films and nanofibers

·       X-ray plasma diagnostics

·       Holography and lithography