慧諾NBC-12TV2（120℃）加熱型勻膠機：片托直接控溫，1-3秒快速熱交換，半導體/光學薄膜專用

在半導體、微電子、光學薄膜等領域，光刻膠涂布、聚合物薄膜制備等工藝對溫度控制和涂膠均勻性有著高要求。慧諾NBC-12TV2（120℃）加熱型勻膠機（旋涂儀/涂膠機）采用片托直接控溫技術，熱交換速度快至1-3秒，確保基片快速達到工藝溫度。轉速范圍100-3000rpm，加速度100-3000rpm/s，具備5段速度調節(jié)和12組參數記憶功能，加溫時間可精確控制（1-9999秒或分鐘）。搭配定制吸盤，適配5號至100號物品，是半導體、微電子、光學薄膜等領域高質量涂膠工藝的理想設備。

一、產品概述

慧諾NBC-12TV2（120℃）加熱型勻膠機專為高精度涂膠工藝設計。采用片托直接控溫技術，加熱部件集成于勻膠機后部背包，溫控器可設定目標溫度（如100℃），約1-3分鐘即可穩(wěn)定（±1℃）?；ㄈ缰睆?0mm、厚度1mm的硅片）放置到片托后，熱交換僅需1-3秒即可達到工藝溫度，大幅提升升溫效率和工藝一致性。

設備具備5段速度調節(jié)和12組參數記憶功能，轉速范圍100-3000rpm，加速度100-3000rpm/s，轉動扭矩在100rpm時大于1N·m，轉速穩(wěn)定。主機外形緊湊（400×250×350mm），采用220V/600W電源，運行穩(wěn)定安全。

二、核心特點

片托直接控溫，快速熱交換
采用片托本身直接控溫的加熱方式，而非傳統(tǒng)的環(huán)境加熱。硅片等物品與片托熱交換速度約1-3秒，基片快速達到工藝溫度，大幅縮短升溫等待時間，提高生產效率。

精準溫度控制
吸盤直接快速升至工藝溫度，加熱范圍室溫至120℃。溫控器顯示精確，藍色加熱指示燈實時顯示加熱狀態(tài)，約1-3分鐘穩(wěn)定在±1℃精度內。

加溫時間可編程控制
加溫時間可精確設定，范圍為1-9999秒或1-9999分鐘，滿足不同工藝對加熱時長的要求。

5段速度調節(jié)，12組參數記憶
支持5段速度可編程控制，每段轉速和加速度均可獨立設置。最多可存儲12組工藝參數，方便快速調用，提高實驗重復性。

寬轉速范圍，大扭矩穩(wěn)定
轉速范圍100-3000rpm，加速度100-3000rpm/s可調。在100rpm低速時扭矩大于1N·m，轉速穩(wěn)定，確保低轉速涂布時的均勻性和可靠性。

定制吸盤，適配5-100號物品
吸盤可定制，適配5號至100號不同尺寸的物品（如硅片、玻璃基片、金屬片等），靈活滿足多種樣品規(guī)格。

緊湊外形，穩(wěn)定可靠
主機外形尺寸400×250×350mm，結構緊湊，節(jié)省實驗室空間。220V/600W電源，運行穩(wěn)定安全。

三、加熱部件操作流程

1. 打開勻膠機后部背包的加熱組件電源開關，觀察儀表通電和顯示

2. 計時器未運行時，按一下RST按鈕，觀察計時器開始倒計時

3. 設定溫控器溫度（如100℃），觀察溫控器顯示數值和藍色加熱指示燈閃爍，約1-3分鐘穩(wěn)定（±1℃），可結合接觸式測溫儀檢測片托表面溫度

4. 將基片（如直徑20mm、厚度1mm的硅片）放置到片托，熱交換約1-3秒

5. 結合自備的接觸式測溫或遠紅外測溫儀表得到物體實際溫度，如不符合預期，可通過溫控器修改設定溫度進行修正

四、詳細規(guī)格參數

五、適用行業(yè)與典型應用

• 半導體制造：光刻膠涂布、前烘/后烘固化

• 微電子：芯片涂膠、MEMS器件制備

• 光學薄膜：光學涂層旋涂、增透膜制備

• 材料科學：聚合物薄膜、納米材料涂布

• 科研院所：實驗室薄膜工藝研究、配方驗證

六、產品優(yōu)勢一覽

• 片托直接控溫：熱交換僅1-3秒，基片快速升溫

• 加熱溫度120℃：滿足光刻膠前烘、后烘等工藝需求

• ±1℃溫度穩(wěn)定度：約1-3分鐘快速穩(wěn)定

• 加溫時間可編程：1-9999秒或分鐘，精確控制

• 5段速度調節(jié)：多段可編程，工藝靈活

• 12組參數記憶：快速調用，提高重復性

• 大扭矩穩(wěn)定：100rpm時扭矩>1N·m，低轉速不抖動

• 定制吸盤：適配5-100號樣品

• 緊湊外形：400×250×350mm，節(jié)省空間

七、購買渠道：認準南北潮商城

南北潮商城是慧諾智能加熱型勻膠機產品的總代理，所有在售NBC-12TV2（120℃）加熱型勻膠機均為原廠，享受廠家級技術支持與售后服務。

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八、結語

慧諾NBC-12TV2（120℃）加熱型勻膠機憑借片托直接控溫（1-3秒快速熱交換）、5段速度調節(jié)、12組參數記憶、100-3000rpm轉速范圍、100-3000rpm/s可調加速度、室溫~120℃加熱溫度等核心優(yōu)勢，成為半導體、微電子、光學薄膜等領域光刻膠涂布、聚合物薄膜制備的理想設備。無論您是進行光刻工藝開發(fā)、薄膜材料研究，還是小批量生產，這款加熱型勻膠機都能提供高效、精準、穩(wěn)定的涂膠+加熱一體化解決方案。

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