kSA SpectR 光譜反射率測量設(shè)備

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品牌
所在地北京市
更新時間2026-09-16

巨力光電（北京）科技有限公司

廠商性質(zhì)其他
所在地區(qū)
實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
產(chǎn)品數(shù)量56
人氣值328

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kSA SpectR 光譜反射率測量設(shè)備

kSA SpectR 光譜反射率測量設(shè)備產(chǎn)品詳情

詳細(xì)說明：

kSA SpectR 光譜反射率測量設(shè)備是一種用于測量光譜反射率，L*a*b*成色值和生長速率的非接觸式測量設(shè)備。該工具具有多種在線監(jiān)控和過程控制的應(yīng)用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)。該設(shè)備主要應(yīng)用于監(jiān)控測量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。

kSA SpectR的光學(xué)鏡組被配置為鏡面反射的幾何形狀。k-Space采用的該測量技術(shù)源自于美國Sandia國家實(shí)驗室，并得到了實(shí)驗室的使用。在這種測量原理中，薄膜每生長出一個新layer，程序就會自動擬合，將已有的所有基底和薄膜layer視為一個新的虛擬基底。kSA SpectR可以同時以多個波長進(jìn)行測量，每個波長都具有潛在的獨(dú)特優(yōu)勢。此工具可在任意客戶選定的波長范圍內(nèi)輕松測量自定義光譜特征，如反射率的最小值、值、拐點(diǎn)或基線散射水平。

測量實(shí)例

850 nm DBR的光譜反射率

在GaAs襯底上生長250nm的AlAs和500nm的GaAs時，532和940nm下的反射率及其擬合曲線

AlAs生長期間的生長速率，光學(xué)常數(shù)和反射率實(shí)時擬合曲線

AlAs和GaAs生長的未經(jīng)校正的高溫計測量結(jié)果和經(jīng)過校正的ECP溫度

GaAs薄膜生長過程中單個反射率振蕩周期圖

關(guān)鍵詞：過程控制

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