化工顏料膠體磨，色漿膠體磨，漿料膠體磨,色漿研磨機，，高剪切膠體磨

色漿膠體磨采用了二級處理結構,*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉子,定轉子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定轉子精密度都達到了水平。

化工顏料膠體磨是CIK（上海）公司2013研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。
                

 NKD2000系列研磨分散機的結構：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

色漿 CIK膠體磨有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結構,一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進行初步粉碎,以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結構,相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

色漿膠體磨為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

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