【儀表網(wǎng) 研發(fā)快訊】近期，中國科學院上海光學精密機械研究所高功率激光元件技術(shù)與工程部和上海理工大學合作，在激光預處理技術(shù)提升多層介質(zhì)膜皮秒抗激光損傷性能方面取得新進展，相關(guān)成果分別以“Effects of laser conditioning with different pulse widths on picosecond laser-induced damage resistance in HfO2/SiO2 high-reflectivity coatings”和“500 ps激光預處理多層介質(zhì)高反膜在皮秒激光下的損傷特性研究”為題分別發(fā)表于Optical Material Express和中國激光。
 

　　基于多層介質(zhì)膜的終端反射鏡及脈沖壓縮光柵的皮秒抗激光損傷能力限制著高能皮秒拍瓦激光系統(tǒng)的最終輸出能力，然而通過進一步優(yōu)化制備工藝來提高多層介質(zhì)膜皮秒抗激光損傷能力仍面臨顯著挑戰(zhàn)。鑒于現(xiàn)階段多層介質(zhì)膜制備工藝優(yōu)化的困境，考慮快點火應用對多層介質(zhì)膜~10ps工作脈寬的需求，團隊提出利用激光預處理技術(shù)調(diào)控誘導皮秒激光損傷的納米缺陷的思路，并優(yōu)化激光預處理工藝參數(shù)，實現(xiàn)了多層介質(zhì)膜皮秒抗激光損傷能力的有效提升。
 

　　團隊分別采用10 ns、800 ps、500 ps 和 250 ps脈寬激光對多層介質(zhì)膜進行處理，發(fā)現(xiàn)500 ps激光預處理對多層介質(zhì)膜在~10 ps激光輻照下的激光損傷閾值(LIDT)提升~12%，但其他脈寬預處理的多層介質(zhì)膜LIDT 變化不明顯。分析表明500 ps 激光預處理所產(chǎn)生適宜的晶格溫度，調(diào)控優(yōu)化了缺陷能級，進而降低了缺陷初始自由電子在后續(xù)~10ps激光輻照下的遷移概率，最終提升了其皮秒LIDT。團隊還進一步驗證了500 ps 激光預處理多層介質(zhì)膜在1-20 ps脈寬范圍的抗激光損傷能力，結(jié)果表明其LIDT提升效果隨脈寬增加而增強，這進一步證實了激光預處理調(diào)控的對象主要是對皮秒損傷敏感的局域納米缺陷。該研究為光學元件皮秒抗激光損傷能力提升技術(shù)及缺陷調(diào)控機制研究提供新參考。
 

　　相關(guān)研究得到了國家重大專項支持。
 

圖 1 未預處理及預處理樣品的LIDT統(tǒng)計結(jié)果
 

　　圖 2 激光預處理對缺陷態(tài)電子及能級影響的簡化模型(a)未預處理、(b) 激光預處理中和(c)激光預處理后缺陷態(tài)電子及能級