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輔光精密儀器（上海）有限公司


晶圓蝕刻清洗機

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海

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更新時間：2024-04-15 13:05:57瀏覽次數(shù)：355次

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產(chǎn)品簡介

晶圓蝕刻清洗機CES是ULTRA晶圓蝕刻清潔系統(tǒng),滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求

詳細介紹

晶圓蝕刻清洗機CES是ULTRA晶圓蝕刻清潔系統(tǒng),滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。
晶圓蝕刻清洗機CESx124、126、128或133非常適合蝕刻和清潔從小直徑到超大直徑的各種尺寸的晶片、光掩模和基板。晶圓蝕刻清洗機CESx可配置多個過程分配選項，從用于DI-H2O或化學(xué)的Megasonic噴嘴；用于化學(xué)配藥的低壓噴嘴；化學(xué)和DI-H2O加熱器；用于表面攪拌以加速反應(yīng)的刷子和/或DI-H2O；還有更多。
晶圓蝕刻清洗機可編程拋物線臂運動有助于確保均勻蝕刻?？焖儆行У母稍锛夹g(shù)結(jié)合了可變的旋轉(zhuǎn)速度；可選加熱的DI-H2O；和氮輔助。該晶圓蝕刻清洗機非常安全，具有“沖洗至pH”功能，可在接觸基質(zhì)之前去除腔室內(nèi)的任何化學(xué)物質(zhì)。

適合直徑不超過9x9英寸/300mm直徑的基片
•具有無刷伺服電機的主軸組件用于精確的速度控制和分度。
•擺動式分配臂，速度可調(diào)&行程位置&可編程拋物線行程。
•徑向排氣室，層流在蓋的頂部與N2進料一起流動。
•用于清潔和干燥輔助的DI-H2O加熱器。
•符合FM4910的PVDF工藝室，含PTFE涂層不銹鋼表面&獨立聚丙烯機柜，不銹鋼內(nèi)部帶泄漏的框架和集成二次安全殼
•微處理器控制，能夠保持三十（30）個食譜在內(nèi)存中有三十（30）個步驟。
•用清水沖洗至整個工藝區(qū)域和基材的pH值聯(lián)鎖裝置禁止進入工藝區(qū)和控制區(qū)排水和主軸速度，直到安全。
•按鈕蓋打開/關(guān)閉。
•觸摸屏圖形用戶界面（GUI），易于操作帶有屏幕錯誤的編程和安全鎖定報告。
•用于化學(xué)品和室內(nèi)排水的排水分流器。
•設(shè)計符合SEMI S2/S8指南，占地面積小，寬28英寸，深24英寸，包括：集成式DI H2O加熱器；化學(xué)品儲存二級安全殼。面向所有人的前臺服務(wù)訪問組件。尺寸不包括后面板設(shè)施和連接


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